[實用新型]低溫培養箱的加濕裝置

有效

• 申請號: 201821399438.1
• 申請日: 2018-08-29
• 公開（公告）號: CN208803060U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 姬東幸
• 申請（專利權）人: 江蘇天通設備科技有限公司
• 主分類號: C12M1/00
• 分類號: C12M1/00;C12M3/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.低溫培養箱的加濕裝置，包括培養箱本體、設置于培養箱本體內部的加濕機構和控制器，其特征在于，所述加濕機構包括霧化池和儲水池，所述霧化池的底部為向下突出的弧形結構，其內部設置有超聲波加濕模塊和霧化池清理桿，所述霧化池前端內壁和后端內壁上均對應設置有第一導軌，所述霧化池清理桿的兩端均通過第一導軌滑塊滑動連接于第一導軌中，以帶動霧化池清理桿的來回移動，所述儲水池為內部中空的圓筒形結構，其內部設置有儲水池清理機構，所述儲水池清理機構包括移動桿和清理盤，所述清理盤通過連接柱固定于移動桿的底部，所述儲水池的內壁兩側均設置有垂直于儲水池底壁的第二導軌，所述移動桿的兩端均通過第二導軌滑塊滑動連接于第二導軌中，以帶動清理盤的上下移動，所述儲水池的底端通過連接管連通霧化池的頂端，所述霧化池的頂端中部連接有氣霧管路，底端中部連接有排水管。

2.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述培養箱本體包括外殼體和內殼體，所述外殼體和內殼體之間設置有保溫層，所述內殼體內部設置有容納室，所述容納室的內壁上設置有吸水材料層，所述霧化池設置于容納室的下方，所述儲水池設置于容納室的右側。

3.根據權利要求2所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述容納室的左側壁上開設有多個等間隔的開口，所述氣霧管路上對應設置有多個噴霧支管，所述噴霧支管通過開口伸入容納室內，噴霧支管和開口的接觸處設置有密封圈。

4.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述儲水池的側壁上部連接有加水管，所述加水管穿過培養箱本體側壁連通外部水箱，所述連接管、加水管、氣霧管路和排水管上均設置有電磁閥，所述電磁閥通過導線連接控制器。

5.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述第一導軌包括直行導軌Ⅰ、直行導軌Ⅱ以及連接直行導軌Ⅰ和直行導軌Ⅱ兩端的彎形導軌，所述直行導軌Ⅰ和直行導軌Ⅱ分別位于霧化池前端內壁和后端內壁的兩側，所述彎形導軌位于霧化池前端內壁和后端內壁的底部，且與霧化池的底部形狀相對應。

6.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述霧化池清理桿的外表面和清理盤的側壁上均設置有毛刷。

7.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述清理盤的直徑與儲水池的直徑相對應。

8.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述霧化池內的頂部和底部分別設置有第一最高液位感應器和第一最低液位感應器，所述第一最高液位感應器的安裝高度低于霧化池清理桿的最高位置。

9.根據權利要求1所述的低溫培養箱的加濕裝置，其特征在于，所述儲水池內的頂部和底部分別設置有第二最高液位感應器和第二最低液位感應器，所述第二最高液位感應器的安裝高度低于清理盤的最高位置。