[實用新型]一種自動電鎳金線有效
| 申請號: | 201821398446.4 | 申請日: | 2018-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN209584414U | 公開(公告)日: | 2019-11-05 |
| 發明(設計)人: | 黃添福 | 申請(專利權)人: | 黃添福 |
| 主分類號: | C25D19/00 | 分類號: | C25D19/00;C25D21/04;C25D21/02;C25D21/10;C25D17/00 |
| 代理公司: | 泉州華昊知識產權代理事務所(普通合伙) 35240 | 代理人: | 杜文娟 |
| 地址: | 362324 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電鍍池 廢氣處理器 廢液處理器 反應室 緩流板 攪拌槳 排液管 吸氣管 底座 電鎳 廢液 橫管 金線 鼓風機 本實用新型 第一增壓泵 液體水平面 固定設置 傾斜設置 上方內壁 中和液體 倒L結構 儲備室 排氣孔 吸氣孔 內壁 熱管 豎管 下端 電機 交錯 清水 | ||
本實用新型公開了一種自動電鎳金線,包括電鍍池、廢氣處理器、廢液處理器和底座,所述底座上依次固定設置有廢氣處理器、電鍍池和廢液處理器,所述廢氣處理器中設置有中和液體,遠離電鍍池的一側上設置有排氣孔,廢氣處理器設置有吸氣管,吸氣管為倒L結構,其中豎管下端處于液體水平面下方,橫管與電鍍池連接,橫管上設置有鼓風機,所述電鍍池上方內壁設置有吸氣孔,電鍍池內壁中設置有加熱管,電鍍池底部設置有攪拌槳,攪拌槳連接有電機,所述廢液處理器下方通過排液管與電鍍池連接,排液管中設置有第一增壓泵,廢液處理器有清水儲備室和廢液反應室構成,廢液反應室中設置有三塊相互交錯的緩流板,每塊緩流板傾斜設置。
技術領域
本實用新型涉及電鍍領域,尤其是涉及一種自動電鎳金線。
背景技術
電鍍是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝,能夠增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、光滑性、耐熱性和表面美觀。
傳統的電鎳、電金工藝中,在所有導電圖形上均需被鍍上鎳和金,因此需要消耗大量的鎳和金,而鎳和金又為貴金屬,在不需要電鎳、電金的部位鍍鎳和金不僅反映了傳統工藝的重大缺陷,而且直接導致了貴金屬的浪費,大大增加了企業的生產成本,隨著國內外環保呼聲的高漲,更多環保型鍍種將得到越來越廣泛的應用,目前高苛刻使用環境的要求,將需要既具環保性能,又具高耐蝕性的合金電鍍鍍種改進并應用。
實用新型內容
本實用新型為克服上述情況不足,旨在提供一種能解決上述問題的技術方案。
一種自動電鎳金線,包括電鍍池、廢氣處理器、廢液處理器和底座,所述底座上依次固定設置有廢氣處理器、電鍍池和廢液處理器,廢氣處理器通過吸氣管與電鍍池連接,電鍍池另一端上方與廢液處理器連接有出液管,下方連接有排液管;
所述廢氣處理器中設置有中和液體,遠離電鍍池的一側上設置有排氣孔,廢氣處理器設置有吸氣管,吸氣管為倒L結構,其中豎管下端處于液體水平面下方,橫管與電鍍池連接,橫管上設置有鼓風機;
所述電鍍池上方內壁設置有吸氣孔,電鍍池內壁中設置有加熱管,電鍍池底部設置有攪拌槳,攪拌槳連接有電機;
所述廢液處理器下方通過排液管與電鍍池連接,排液管中設置有第一增壓泵,廢液處理器有清水儲備室和廢液反應室構成,排液管連接在廢液反應室中,廢液反應室上設置有進料口,廢液反應室中設置有三塊相互交錯的緩流板,每塊緩流板傾斜設置,下方的緩流板與箱底中留有空隙,最上方的緩流板設置有微孔過濾膜,箱頂與最上方緩流板之間設置有離子交換器,最上方的緩流板靠近箱頂的一側面設置有出液口,緩流板在靠近出液口一側設置有反滲透膜,反滲透膜的另一側為清水儲備室。
作為本實用新型進一步的方案:所述底座下方設置有凹槽,凹槽中設置有移動機構,移動機構包括滑輪和液壓缸。
作為本實用新型進一步的方案:所述吸氣孔上設置有擋板。
作為本實用新型進一步的方案:所述電鍍池外表面設置有保溫層。
作為本實用新型進一步的方案:所述清水儲備室設置有第二增壓泵,第二增壓泵連接有清水管。
作為本實用新型進一步的方案:所述廢液處理器一壁上設置有玻璃。
作為本實用新型進一步的方案:所述進料口上設置有蓋子,蓋子與進料口通過螺紋連接。
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