[實(shí)用新型]鍍膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821393610.2 | 申請日: | 2018-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN208898982U | 公開(公告)日: | 2019-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐威 | 申請(專利權(quán))人: | 君泰創(chuàng)新(北京)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人: | 王剛 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)亦*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 遮擋部件 屏蔽 厚度測量傳感器 鍍膜裝置 鍍膜 鍍膜腔室 膜層 開腔 本實(shí)用新型 測量周期 方向設(shè)置 橫向設(shè)置 實(shí)時監(jiān)控 鍍膜腔 對設(shè)備 開口處 預(yù)設(shè) 測量 室內(nèi) 檢測 清潔 | ||
1.一種鍍膜裝置,其特征在于,包括鍍膜腔室(7)、設(shè)置于所述鍍膜腔室(7)內(nèi)的鍍膜機(jī)構(gòu)(1)、第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)、厚度測量傳感器(3),所述第一屏蔽或遮擋部件(2)沿著所述鍍膜機(jī)構(gòu)(1)的鍍膜方向設(shè)置,所述第二屏蔽或遮擋部件(6)橫向設(shè)置在所述鍍膜腔室(7)的開口處,所述厚度測量傳感器(3)用于檢測所述第一屏蔽或遮擋部件(2)和第二屏蔽或遮擋部件(6)上的膜層(4)的厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)設(shè)置于所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的邊緣側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)為共焦位移傳感器。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)為激光共焦位移傳感器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)設(shè)置于所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的朝向所述鍍膜機(jī)構(gòu)(1)的一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)的數(shù)量為兩個,其中一個厚度測量傳感器(3)設(shè)置于所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的朝向所述鍍膜機(jī)構(gòu)(1)的一側(cè),另一個厚度測量傳感器(3)設(shè)置于所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的背離所述鍍膜機(jī)構(gòu)(1)的一側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)為反射測距傳感器或者共焦位移傳感器。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)為激光測距傳感器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)設(shè)置于所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的朝向所述鍍膜機(jī)構(gòu)(1)的一側(cè),并與所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)直接接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的鍍膜裝置,其特征在于,所述厚度測量傳感器(3)為測距探針,所述鍍膜裝置還包括移動機(jī)構(gòu),所述移動機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動所述厚度測量傳感器(3)朝著靠近或者遠(yuǎn)離所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的方向進(jìn)行往復(fù)移動,以及驅(qū)動所述厚度測量傳感器(3)在平行于所述第一屏蔽或遮擋部件(2)、第二屏蔽或遮擋部件(6)的平面內(nèi)移動。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





