[實用新型]防護板組件和物理氣相沉積PVD鍍膜設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821391196.1 | 申請日: | 2018-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN208949391U | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃亞麗 | 申請(專利權(quán))人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京英創(chuàng)嘉友知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 胡婷婷;陳慶超 |
| 地址: | 100176 北京市大興區(qū)北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 防護板組件 磁控濺射鍍膜 側(cè)面遮擋板 腔體 物理氣相沉積 電源短路 平滑過渡 影響基板 長條狀 內(nèi)折彎 下端面 靶材 側(cè)腔 搭接 掉渣 鍍膜 基板 膜層 下端 遮擋 | ||
1.一種防護板組件,用于物理氣相沉積PVD鍍膜設(shè)備,所述PVD鍍膜設(shè)備包括磁控濺射鍍膜腔體(50),所述防護板組件用于設(shè)置在所述磁控濺射鍍膜腔體(50)中,其特征在于,所述防護板組件包括遮擋所述磁控濺射鍍膜腔體(50)的側(cè)腔壁的側(cè)面遮擋板(1),該側(cè)面遮擋板(1)的下端部分(11)朝內(nèi)折彎,并且所述側(cè)面遮擋板(1)的下端面(12)與所述側(cè)面遮擋板(1)的至少一個表面之間連續(xù)且平滑過渡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護板組件,其特征在于,所述下端面(12)構(gòu)造為曲面,該曲面與所述下端部分(11)的內(nèi)表面(13)在連續(xù)處相切,以使得所述曲面與所述內(nèi)表面(13)之間平滑過渡。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護板組件,其特征在于,所述下端面(12)構(gòu)造為曲面,該曲面與所述下端部分(11)的外表面(14)在連續(xù)處相切,以使得所述曲面與所述外表面(14)之間平滑過渡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防護板組件,其特征在于,所述下端面(12)構(gòu)造為曲面,該曲面與所述下端部分(11)的內(nèi)表面(13)和外表面(14)在連續(xù)處均相切,以使得所述曲面與所述內(nèi)表面(13)和所述外表面(14)之間均平滑過渡。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的防護板組件,其特征在于,所述下端面(12)為C形曲面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項所述的防護板組件,其特征在于,所述防護板組件設(shè)置有兩個所述側(cè)面遮擋板(1),該兩個側(cè)面遮擋板(1)分別遮擋所述磁控濺射鍍膜腔體(50)的兩個相對的所述側(cè)腔壁,且兩個所述側(cè)面遮擋板(1)的下端部分(11)相對折彎。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項所述的防護板組件,其特征在于,所述磁控濺射鍍膜腔體(50)中設(shè)置有并排布置的至少兩個圓筒狀的靶材(6),所述防護板組件包括隔板(2),任意相鄰的兩個所述靶材(6)之間均設(shè)置有所述隔板(2),該隔板(2)的下端部分卷曲,以使得所述隔板(2)的下部端面(21)面朝所述隔板(2)的對應(yīng)的表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項所述的防護板組件,其特征在于,所述磁控濺射鍍膜腔體(50)中設(shè)置有并排布置的至少兩個圓筒狀的靶材(6),所述防護板組件包括隔板(2),任意相鄰的兩個所述靶材(6)之間均設(shè)置有所述隔板(2),該隔板(2)的下端連接有加強件(3),該加強件(3)為板狀結(jié)構(gòu),具有相對的上表面(31)和下表面(32)以及分別對應(yīng)于所述隔板(2)兩側(cè)的兩個相對的端面(33),所述隔板(2)的下端連接于所述上表面(31),所述板狀結(jié)構(gòu)的分別對應(yīng)于所述隔板(2)兩側(cè)的兩端分別卷曲,以使得所述端面(33)面朝所述上表面(31)或所述下表面(32)或所述隔板(2)的任一表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項所述的防護板組件,其特征在于,所述磁控濺射鍍膜腔體(50)中設(shè)置有并排布置的至少兩個圓筒狀的靶材(6),所述防護板組件包括隔板(2),任意相鄰的兩個所述靶材(6)之間均設(shè)置有所述隔板(2),該隔板(2)的下端連接有加強件(3),該加強件(3)為板狀結(jié)構(gòu),具有相對的上表面(31)和下表面(32)以及分別對應(yīng)于所述隔板(2)兩側(cè)的兩個相對的兩個端面(33),所述隔板(2)的下端連接于所述上表面(31),所述加強件(3)的兩個所述端面(33)均與所述上表面(31)和所述下表面(32)連續(xù)且平滑過渡。
10.一種物理氣相沉積PVD鍍膜設(shè)備,其特征在于,所述PVD鍍膜設(shè)備包括權(quán)利要求1-9中任意一項所述的防護板組件。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





