[實用新型]一種鐳射打標機

有效

• 申請號: 201821390180.9
• 申請日: 2018-08-28
• 公開（公告）號: CN209035714U
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: 閆立意
• 申請（專利權）人: 全訊射頻科技(無錫)有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/70;B23K37/04
• 代理公司: 無錫盛陽專利商標事務所(普通合伙) 32227
• 代理人: 顧吉云

一種鐳射打標機，其可實現對彎曲度大于1.5mm的LTCC產品的穩固吸附，可大大提高打標定位的準確性和定位精度，并且可有效避免產品損壞等問題的出現，其包括機架，機架上順序安裝進料結構、真空打印平臺、出料推桿機構、真空檢測平臺，真空檢測平臺出口處設置有收料盒，真空打印平臺、真空檢測平臺分別包括真空吸盤，真空吸盤有真空吸附孔，真空吸附孔通過管道與真空發生器連通，吸附孔位于真空吸盤的中心位置，在吸附孔的周圍，真空吸盤由內而外設置有支撐凸筋，凸筋的頂端端面和真空吸盤的端面平齊，真空吸盤的直徑為R，LTCC產品的最大長度為H，則2/3*H≥R≥1/2*H，LTCC產品的彎曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。

技術領域

本實用新型涉及陶瓷產品生產技術領域，具體為一種鐳射打標機。

背景技術

LTCC產品是一種采用LTCC技術生產的陶瓷產品，LTCC產品以其優異的電子、機械、熱力特性而被廣泛應用于電子元件的集成化、模組化生產中。目前LTCC產品的生產工藝流程為基板及原器件封裝、鐳射打標、切割、測試、包裝出貨，其中封裝完成后的LTCC產品打標主要采用鐳射打標設備實現，鐳射站目前常用的鐳射打標機的主要結構包括進料盒、上料推桿機構、打印和檢測區域、出料推桿機構和收料盒，但是現有技術中的鐳射打標機結構不能滿足具有一定彎曲度形狀的LTCC產品的生產，由于LTCC產品具有易碎的特點，且一些LTCC產品的形狀為具有一定彎曲度的笑臉形式，當采用現有技術中的鐳射打標機打標時，產品在進料、打標、檢測、出料過程中易出現打標位置不固定、打標精度不高的問題出現，甚至可能導致LTCC產品損壞，現有技術中的打印和檢測區域采用的真空平臺主要采用分布式橡膠吸嘴吸附固定LTCC產品，橡膠吸嘴數量為6個或9個，均勻布置于真空平臺上，且橡膠吸嘴為周圍平齊中間凹陷的單孔結構，其可吸附彎曲度小于1.5mm的LTCC產品，而對于彎曲度大于1.5mm的LTCC產品則無法穩固吸附，在吸附過程中可能導致LTCC產品產生隱裂。且在真空平臺兩側設置有固定夾，現有技術中的固定夾為L形壓板，壓板的端部對應LTCC產品的兩側邊緣進行壓緊操作，但是此種固定方式固定夾易擋住LTCC產品的定位識別點，導致打印和檢測無法準確定位等問題，從而影響LTCC產品的質量。

實用新型內容

針對現有技術中存在的真空平臺的周圍平齊中間凹陷的單孔結構的橡膠吸嘴無法吸附固定彎曲度大于1.5mm的LTCC產品的問題，本發明提供了一種鐳射打標機，其可實現對彎曲度大于1.5mm的LTCC產品的穩固吸附，可大大提高打標定位的準確性和定位精度，并且可有效避免產品損壞等問題的出現。

一種鐳射打標機，其包括機架，所述機架上順序安裝進料結構、真空打印平臺、出料推桿機構、真空檢測平臺，所述真空檢測平臺出口處設置有收料盒，所述真空打印平臺、真空檢測平臺分別包括真空吸盤，所述真空吸盤有真空吸附孔，所述真空吸附孔通過管道與真空發生器連通，其特征在于：所述真空吸附孔位于所述真空吸盤的中心位置，在真空吸附孔的周圍，所述真空吸盤由內而外設置有支撐凸筋，所述凸筋的頂端端面和所述真空吸盤的端面平齊；所述真空吸盤的直徑為R，所述LTCC產品的最大長度為H，則2/3*H≥ R≥1/2*H，所述LTCC產品的彎曲度大于等于1.5mm，小于等于1.8mm。

其進一步特征在于：

所述真空吸附孔的周圍沿徑向設置有呈發射狀布置的所述凸筋，在所述發射狀布置的凸筋的周圍為以同心圓方式布置的環狀凸筋，所述環狀凸筋上設置有第一缺口，相鄰兩環上的第一缺口交錯布置；

在所述真空吸盤的側部設置有固定夾，所述固定夾包括支撐段和壓緊段，所述支撐段安裝于升降結構，所述壓緊段和所述真空吸盤盤面之間的夾角大于90°小于180°，所述壓緊段間隔布置第二缺口，所述第二缺口與所述LTCC產品上的定位識別點相對應；

所述固定夾的壓緊段和待壓緊的LTCC產品之間用圓弧面接觸；