[實(shí)用新型]多光譜成像裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821389007.7 | 申請日: | 2018-08-27 |
| 公開(公告)號: | CN209182239U | 公開(公告)日: | 2019-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳思繁;蘇秋程;劉愛江 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳技術(shù)大學(xué)(籌) |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;G01N21/01 |
| 代理公司: | 深圳市精英專利事務(wù)所 44242 | 代理人: | 林燕云 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成像透鏡 多光譜成像裝置 探測器 可調(diào)濾光器 樣品臺 液晶 本實(shí)用新型 成像 接收圖像信息 發(fā)射光束 光源模組 同一光軸 樣品信息 寬光譜 物平面 像平面 鏡片 濾光 反射 采集 | ||
1.一種多光譜成像裝置,其特征在于,包括用于放置樣品的樣品臺、用于發(fā)射光束的光源模組、用于反射所述光束至所述樣品臺的第一鏡片、用于成像的成像透鏡、用于濾光的液晶可調(diào)濾光器件以及用于接收圖像信息的探測器;
所述樣品臺位于成像透鏡的物平面,所述探測器位于所述成像透鏡的像平面,所述液晶可調(diào)濾光器件位于所述成像透鏡與所述探測器之間,所述成像透鏡、所述液晶可調(diào)濾光器件和所述探測器在同一光軸上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述光源模組包括依次排列于同一光軸上的光源器件、第一透鏡和第一濾光片;
所述光源器件用于發(fā)射擴(kuò)散的光束,所述第一透鏡用于使所述擴(kuò)散的光束平行出射,所述第一濾光片用于對平行出射的光束進(jìn)行濾波。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述第一鏡片為二向色鏡,所述二向色鏡位于所述光軸上,與所述光軸成45°放置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述二向色鏡位于所述成像透鏡與所述樣品臺之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述二向色鏡位于所述成像透鏡與所述液晶可調(diào)濾光器件之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述光源器件為汞燈。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述二向色鏡用于反射波長小于或等于400nm的光束且透射高于400nm的光束。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多光譜成像裝置,其特征在于,所述第一濾光片的透射波長范圍為340nm至390nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多光譜成像裝置,其特征在于,還包括可調(diào)節(jié)輸出電壓的電壓源,所述電壓源連接所述液晶可調(diào)濾光器件。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





