[實用新型]載源體及放療設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821377969.0
• 申請日: 2018-08-24
• 公開（公告）號: CN210131261U
• 公開（公告）日: 2020-03-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉海峰;李大梁
• 申請（專利權(quán)）人: 西安大醫(yī)集團股份有限公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京三高永信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11138
• 代理人: 林鑫

1.一種載源體，其特征在于，所述載源體上設(shè)置有多個放射源，且所述多個放射源在經(jīng)度方向的夾角在預(yù)設(shè)夾角范圍內(nèi)；所述載源體為碗狀、筒狀或片狀。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，所述預(yù)設(shè)夾角范圍為5°-60°。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，在經(jīng)度方向上，所述多個放射源分為多組，相鄰兩組放射源的夾角范圍為2°-15°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，所述多個放射源在緯度方向的夾角范圍為20°-60°。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，在緯度方向上，任意相鄰兩個放射源的夾角范圍為1°-10°。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，所述放射源在緯度方向其位置各不相同。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，所述載源體上設(shè)置有多個放射源孔，所述放射源固定安裝在所述放射源孔內(nèi)；或者，

所述載源體上設(shè)置有與源匣形狀相匹配的源匣位，所述源匣可固定安裝在所述源匣位處，所述源匣上安裝有所述多個放射源。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的載源體，其特征在于，所述源匣上還設(shè)置有取換源匣的連接部。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的載源體，其特征在于，所述源匣與所述載源體的材料不同。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的載源體，其特征在于，所述多個放射源發(fā)出的射束經(jīng)準直后相交于一個公共焦點，所述公共焦點位于所述載源體的中心軸上。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的載源體，其特征在于，所述載源體繞所述中心軸360°圓周旋轉(zhuǎn)或往復旋轉(zhuǎn)。

12.一種放療設(shè)備，其特征在于，所述放療設(shè)備包括射源裝置，所述射源裝置包括如權(quán)利要求1-11任一項所述的載源體以及準直體，所述載源體上的多個放射源發(fā)出的射束經(jīng)所述準直體進行準直后相交于一個公共焦點。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述射源裝置還包括載源體驅(qū)動裝置，用于驅(qū)動所述載源體繞其中心軸旋進行旋轉(zhuǎn)運動。

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述公共焦點位于所述射源裝置的端面之外。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述放療設(shè)備還包括成像裝置，所述成像裝置設(shè)置在所述射源裝置的一側(cè)，所述公共焦點位于所述成像裝置的成像區(qū)域內(nèi)。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述成像裝置為X射線成像裝置、CT成像裝置、MR成像裝置、DSA成像裝置、超聲成像裝置或PET成像裝置中的任意一種或其的任意組合。

17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的放療設(shè)備，其特征在于，所述射源裝置還包括屏蔽裝置，所述屏蔽裝置位于所述射源裝置的一側(cè)，所述放射源發(fā)出的射束穿過公共焦點后被所述屏蔽裝置屏蔽。