[實用新型]一種全自動鍍膜設備

有效

• 申請號: 201821376216.8
• 申請日: 2018-08-24
• 公開（公告）號: CN208685046U
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 陳道理
• 申請（專利權）人: 盱眙新遠光學科技有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型提供一種全自動鍍膜設備，包括：蒸鍍裝置，所述蒸鍍裝置一側設有蒸鍍源發生器，所述蒸鍍裝置內設有輔助加熱裝置，所述輔助加熱裝置包括輔助加熱板，所述輔助加熱板通過加熱板調節座安裝在蒸鍍裝置內，所述蒸鍍源發生器包括蒸發坩堝，所述蒸發坩堝一側設有預熱坩堝，所述蒸發坩堝下端設有加熱盤，所述加熱盤上設有若干加熱頭，所述蒸鍍裝置包括蒸鍍釜，所述蒸鍍釜上端設有蒸鍍釜封頭，所述蒸鍍釜封頭內設有鍍膜噴管裝置，本實用新型可以在加料的同時進行預熱，提高加熱均勻度，防止飛濺，而且，將傳統鍍膜裝置的單個鍍膜源，分散成若干噴頭，可以大大提高蒸鍍的均勻性，提高鍍膜層的平整度，提高產品品質。

技術領域

本實用新型涉及蒸發鍍膜裝置技術領域，具體為一種全自動鍍膜設備。

背景技術

鍍膜技術廣泛應用于各種工件上，鍍膜不僅能保護工件，防止工件磨損、氧化，而且使工件表面光滑，裝飾性強；在薄膜制備過程中，需要很強的功率才能使金屬原料從固體狀態蒸發汽化，在真空鍍膜工藝中，加熱裝置是一種重要的蒸發設備。加熱裝置使其中的物質蒸發，蒸發物質的原子或分子就會以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。但是，在鍍膜過程中，容易出現鍍膜層不均勻，鍍膜質量不高等缺點。而且，目前鍍膜設備的舟內材料在加熱過程中加熱不均勻，有時會濺出到加熱裝置外，而且氣化效率較低。

實用新型內容

本實用新型所解決的技術問題在于提供一種全自動鍍膜設備，以解決上述背景技術中提出的問題。

本實用新型所解決的技術問題采用以下技術方案來實現：一種全自動鍍膜設備，包括：蒸鍍裝置，所述蒸鍍裝置一側設有蒸鍍源發生器，所述蒸鍍裝置內設有輔助加熱裝置，所述輔助加熱裝置包括輔助加熱板，所述輔助加熱板通過加熱板調節座安裝在蒸鍍裝置內，所述蒸鍍源發生器包括蒸發坩堝，所述蒸發坩堝一側設有預熱坩堝，所述蒸發坩堝下端設有加熱盤，所述加熱盤上設有若干加熱頭，所述加熱盤下端安裝在加熱盤固定座上，所述蒸鍍裝置包括蒸鍍釜，所述蒸鍍釜上端設有蒸鍍釜封頭，所述蒸鍍釜封頭內設有鍍膜噴管裝置，所述鍍膜噴管裝置通過噴管裝置固定支架安裝在蒸鍍釜封頭內，所述鍍膜噴管裝置連接于蒸鍍源輸送管上，所述蒸鍍釜封頭上設有抽真空管，所述抽真空管上設有抽真空泵，所述抽真空泵安裝在真空泵固定座上，所述蒸鍍釜內設有鍍件放置板，所述鍍件放置板上設有鍍件固定支架，所述鍍件固定支架上設有柔性墊塊，鍍件放置在柔性墊塊上，所述鍍件放置板下端安裝在升降氣缸上，所述升降氣缸的輸出端通過放置板安裝座安裝在鍍件放置板上，所述升降氣缸的缸體通過升降氣缸固定座安裝在蒸鍍釜底部。

所述加熱盤一側設有加熱盤移動調節裝置，所述加熱盤移動調節裝置包括滑動調節裝置、調節氣缸，所述加熱盤一側安裝在調節氣缸的輸出端上，滑動調節裝置安裝在加熱盤下側，所述滑動調節裝置安裝在調節裝置支架上，所述調節氣缸通過調節氣缸安裝座安裝在調節裝置支架上，所述蒸發坩堝上端設有坩堝蓋，所述坩堝蓋上端設有蒸鍍輸送管，所述預熱坩堝上端設有加料斗，加料斗的加料口上設有密封蓋板。

所述預熱坩堝與蒸發坩堝之間設有過度段，預熱坩堝傾斜設置，預熱坩堝的傾斜角度為10-40°，所述加熱盤的三分之二在蒸發坩堝下側，加熱盤的三分之一在預熱坩堝下側。

所述蒸鍍釜封頭一側通過固定軸安裝在蒸鍍釜上、另一側通過固定卡扣安裝在蒸鍍釜上，所述固定卡扣上設有密封鎖緊手柄。

所述鍍膜噴管裝置包括蒸鍍源分配管，蒸鍍源分配管通過噴管裝置固定支架安裝在蒸鍍釜封頭內，所述蒸鍍源分配管上設有若干噴頭接頭，所述噴頭接頭上設有噴頭，所述噴頭通過連接軟管安裝在噴頭接頭上。

所述噴頭尾端通過旋轉銷安裝在固定板上，噴頭在固定板上等距均勻設置，固定板安裝在蒸鍍釜封頭上，所述噴頭頭端通過旋轉銷安裝在角度調節板上，所述角度調節板一端設有伸縮氣缸。