[實用新型]一種結構光投影裝置及深度相機有效
| 申請號： | 201821376078.3 | 申請日： | 2018-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN209343054U | 公開（公告）日： | 2019-09-03 |
| 發明（設計）人： | 王化民 | 申請（專利權）人： | 昂紅科技（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | G02B27/42 | 分類號： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 深圳市道臻知識產權代理有限公司 44360 | 代理人： | 陳琳;陳嘉琪 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市龍崗*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 衍射 結構光投影裝置 本實用新型 功能區域 深度相機 衍射圖像 投射 光源 透鏡 不規則圖案 高密度圖案 小功率光源 二維規則 光學領域 目標空間 隨機排布 投影圖像 衍射元件 二維 排布 散斑 合成 匯聚 圖案 發射 | ||
1.一種結構光投影裝置，其特征在于，所述結構光投影裝置包括：
光源，發射具有二維規則圖案的光束；
透鏡，接收并匯聚所述光束；
衍射元件，至少包括兩個獨立衍射功能區域，全部或部分所述獨立衍射功能區域的衍射規格不相同；
其中，所述光束經過獨立衍射功能區域投射出具有對應衍射規格的衍射圖像，并且，所述衍射圖像在目標空間中合成具有二維不規則圖案的投影圖像。
2.根據權利要求1所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述至少兩獨立衍射功能區域均處于二維空間中，并且所述至少兩獨立衍射功能區域的投影視場處于重疊狀態、部分重疊狀態或拼接狀態。
3.根據權利要求1所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述衍射元件還包括一半導體基板，所述獨立衍射功能區域包括設置在半導體基板上的刻蝕區域。
4.根據權利要求1所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述衍射元件還包括一透明基板，所述獨立衍射功能區域所構成的半導體結構貼合在半導體基板上。
5.根據權利要求4所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述透明基板的材質為半導體材質、玻璃材質和塑料材質中的一種。
6.根據權利要求1至5任一所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述獨立衍射功能區域陣列排布設置。
7.根據權利要求1所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述光源至少包括兩個發光子光源，所述發光子光源均配置一透鏡，或者，至少兩所述發光子光源構成一發光子光源組，且所述發光子光源組均配置一透鏡。
8.根據權利要求1或7所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述透鏡均配置一獨立衍射功能區域，或者，至少兩所述透鏡構成一透鏡組，且所述透鏡組配置一獨立衍射功能區域，或者，所述透鏡均配置多個獨立衍射功能區域。
9.根據權利要求1所述的結構光投影裝置，其特征在于：所述結構光投影裝置還包括固定殼體，所述光源、透鏡和衍射元件均設置在固定殼體上；以及，所述固定殼體的材質包括玻璃、陶瓷、石墨、金屬和塑料中的一種或多種。
10.一種結構光投影裝置，其特征在于，所述結構光投影裝置包括：
光源，發射具有二維規則圖案的光束；
透鏡，接收并匯聚所述光束；
衍射元件，包括一獨立衍射功能區域；
其中，所述光束經過獨立衍射功能區域投射出具有對應衍射規格的衍射圖像，并在目標空間中形成具有二維不規則圖案的投影圖像。
11.一種深度相機，其特征在于，所述深度相機包括：
如權利要求1至10任一所述的結構光投影裝置，用于向目標空間中投影具有二維不規則圖案的投影圖像；
圖像采集裝置，用于采集目標空間中的實際圖像；
處理器，接收由所述圖像采集裝置采集的實際圖像并生成所述目標空間的深度圖像；
其中，利用匹配算法計算所述投影圖像與實際圖像之間的偏離值，根據所述偏離值計算出所述深度圖像。
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