[實(shí)用新型]一種輻射制冷薄膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821374974.6 | 申請日： | 2018-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN209141493U | 公開（公告）日： | 2019-07-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請（專利權(quán)）人： | 寧波瑞凌節(jié)能環(huán)保創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)研究院 |
| 主分類號： | B29D7/01 | 分類號： | B29D7/01 |
| 代理公司： | 深圳市中科創(chuàng)為專利代理有限公司 44384 | 代理人： | 梁炎芳;謝亮 |
| 地址： | 315599 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 硬化層 反射層 基膜 下表面 高分子聚合物 輻射制冷 球體 本實(shí)用新型 抗靜電劑 上表面 質(zhì)量比 薄膜 非金屬氧化物 金屬氧化物 耐老化性能 反射 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種輻射制冷薄膜，其特征在于：包括基膜、設(shè)置在基膜下表面的反射層以及硬化層，所述硬化層包括上硬化層和下硬化層，所述上硬化層設(shè)于基膜的上表面，所述下硬化層設(shè)于反射層下表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射制冷薄膜，其特征在于：所述反射層為金、銀、鋁、鉻中的一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射制冷薄膜，其特征在于：所述基膜的厚度為40～100μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射制冷薄膜，其特征在于：所述反射層的厚度為20～250nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射制冷薄膜，其特征在于：所述硬化層的厚度為1～20μm。
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