[實(shí)用新型]一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821359957.5 | 申請日： | 2018-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN208938928U | 公開（公告）日： | 2019-06-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳峰 | 申請（專利權(quán)）人： | 浙江眾晶電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 昆明合眾智信知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 53113 | 代理人： | 錢磊 |
| 地址： | 324000 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 底板 側(cè)板 清洗支架 單晶硅片清洗裝置 噴水頭 單片 清洗 噴水管 清洗槽 固連 滑道 本實(shí)用新型 單晶硅片 清洗效率 上料機(jī)構(gòu) 長條形 通孔 沖洗 對準(zhǔn) | ||
1.一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，包括清洗槽，其特征在于，所述清洗槽內(nèi)設(shè)有清洗支架，清洗支架包括底板和側(cè)板，底板的前后兩側(cè)固連兩個(gè)側(cè)板，底板與兩個(gè)側(cè)板構(gòu)成一個(gè)長條形的滑道，側(cè)板的底部與底板固連，兩個(gè)側(cè)板和底板的中間部分均開有通孔，清洗支架的中間部分的上方設(shè)有噴水管，噴水管的底部設(shè)有三個(gè)噴水頭，噴水頭對準(zhǔn)底板的中間部位；清洗支架的右側(cè)設(shè)有上料機(jī)構(gòu)，上料機(jī)構(gòu)包括推桿，推桿的左端插入清洗支架的右端，推桿的底部通過滑塊安裝于滑軌上，滑軌的底部固定安裝于底座上，推桿的右端與第二連桿的一端鉸接，第二連桿的另一端與第一連桿的一端鉸接，第一連桿的另一端固定連接電機(jī)的輸出軸，電機(jī)通過電機(jī)座安裝于底座上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于，所述側(cè)板和底板開有通孔部分的寬度為單晶硅片的直徑的1.2倍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于，所述側(cè)板的內(nèi)壁上覆蓋緩沖層，緩沖層的材料為橡膠。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于，所述噴水管通過管道和水泵連接清洗液槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單片清洗的單晶硅片清洗裝置，其特征在于，所述清洗支架的上方的噴水管的底部設(shè)有八個(gè)噴水頭，側(cè)板和底板開有通孔部分的寬度為單晶硅片的直徑的3倍。
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H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
