[實用新型]一種結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821359330.X | 申請日: | 2018-08-22 |
| 公開(公告)號: | CN209459601U | 公開(公告)日: | 2019-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉浪;龐淑屏;劉威;曲崴;戰(zhàn)玉臣 | 申請(專利權(quán))人: | 沈陽華慧高新技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/25 | 分類號: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 北京元中知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11223 | 代理人: | 張則武 |
| 地址: | 110042 遼寧省*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 三維掃描裝置 投影圖像 成像系統(tǒng) 投影系統(tǒng) 工作距 結(jié)構(gòu)光 本實用新型 標(biāo)定參數(shù) 控制系統(tǒng) 觀測物 投射 反射 有效測量范圍 成像鏡頭 成像器件 工作參數(shù) 三維測量 掃描裝置 使用環(huán)境 投影鏡頭 投影器件 可變 標(biāo)定 配置 觀測 | ||
本實用新型公開了一種結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置,包括投影系統(tǒng),配置為向被觀測物投射投影圖像;所述投影系統(tǒng)至少包括可投射投影圖像的投影器件,投影鏡頭;成像系統(tǒng),配置為接收被觀測物反射的投影圖像;所述成像系統(tǒng)至少包括接收反射回的投影圖像的成像器件,成像鏡頭;控制系統(tǒng),控制所述的投影系統(tǒng)和成像系統(tǒng);所述控制系統(tǒng)中包括至少兩個標(biāo)定參數(shù);在掃描裝置的有效測量范圍內(nèi),標(biāo)定參數(shù)與三維掃描裝置的工作距一一對應(yīng)。本實用新型提供一種在工作距變化或者更換不同使用環(huán)境情況下,無需再次標(biāo)定相應(yīng)工作參數(shù),可直接對待觀測物體進行三維測量的可變工作距的結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于光學(xué)領(lǐng)域,具體地說,涉及一種結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置。
背景技術(shù)
三維物體表面形貌的測量,在機械制造領(lǐng)域又稱為逆向工程,在現(xiàn)代加工制造及實際作業(yè)生產(chǎn)中起著越來越重要的作用;隨著三維物體表面形狀的非接觸檢測技術(shù)在科研、醫(yī)學(xué)診斷、工程設(shè)計、刑事偵查現(xiàn)場痕跡分析、自動在線檢測、質(zhì)量控制、機器人及許多生產(chǎn)過程中越來越廣泛的應(yīng)用,人們對三維形貌測量的要求也越來越高,其應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷擴大。
在現(xiàn)有技術(shù)中,三維形貌測量技術(shù)視場改變主要通過改變工作距和更換鏡頭的方式實現(xiàn),前者相當(dāng)于調(diào)焦后者相當(dāng)于變焦,調(diào)焦方式需要改變投影光路與成像光路的基距即改變?nèi)S掃描裝置的結(jié)構(gòu)尺寸,視場越大掃描裝置的結(jié)構(gòu)尺寸越大;變焦方式需要更換投影、成像鏡頭;雖然現(xiàn)有三維掃描技術(shù)也用標(biāo)志點確定工作距,但標(biāo)志點非偏心設(shè)置,無法隨工作距變化而改變標(biāo)志點成像位置即區(qū)分工作距,進一步來說調(diào)焦、變焦方式都需要變化后對三維掃描裝置標(biāo)定后方可進行三維測量。
申請?zhí)枮镃N201510416362.3的中國專利公開了一種三維掃描顯微鏡及條紋投影三維掃描的方法,利用安裝在體視顯微鏡上的具有同步觸發(fā)模式和精確像素對應(yīng)模式的條紋投影裝置和具有同步觸發(fā)條紋采集裝置分別進行投影和拍攝,條紋投影裝置投射的序列條紋圖形經(jīng)體視顯微鏡內(nèi)部條紋投影光路從物鏡射出后投射在被觀測物表面,條紋采集裝置經(jīng)體視顯微鏡內(nèi)部條紋采集光路獲取被觀測物表面的序列條紋圖像,兩者同步進行,使投影和拍攝效率更高。
申請?zhí)枮镃N201120019181.4的中國專利公開了一種結(jié)構(gòu)光三維形貌測量裝置,包括投影機和攝像機,投影機和攝像機設(shè)于支架上,投影機和攝像機之間距離可調(diào),所述投影機的投影光路和攝像機的成像光路平行,且投影機的投影透鏡和攝像機的成像透鏡其中至少有一透鏡偏心。該測量裝置利用投影鏡頭和/或成像鏡頭的偏心成像原理,使投影視場光學(xué)中心與成像視場光學(xué)中心在物距位置重合、投影視場與成像視場在物距位置重疊,加大了投影機光軸與攝像機光軸的距離,從而形成無陰影的高精度測量區(qū)域。
雖然上述現(xiàn)有技術(shù)在一定程度上解決了三維形貌測量的問題,但依然存在著更換工作距或者使用環(huán)境時,需對三維掃描裝置重新進行標(biāo)定的情況,極大的降低了使用效率和應(yīng)用的范圍。
因此,有必要對現(xiàn)有技術(shù)的不足和缺陷進行改進,提供一種在工作距變化或者更換不同使用環(huán)境情況下,無需再次標(biāo)定相應(yīng)工作距參數(shù),可直接對待觀測物體進行三維測量的結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置。
有鑒于此特提出本實用新型。
實用新型內(nèi)容
本實用新型要解決的技術(shù)問題在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種可以克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置。
為解決上述技術(shù)問題,本實用新型采用技術(shù)方案的基本構(gòu)思是:一種結(jié)構(gòu)光三維掃描裝置,包括
投影系統(tǒng),配置為向被觀測物投射投影圖像;
所述投影系統(tǒng)至少包括可投射投影圖像的投影器件,投影鏡頭;
成像系統(tǒng),配置為接收被觀測物反射的投影圖像;
所述成像系統(tǒng)至少包括接收反射回的投影圖像的成像器件,成像鏡頭;
控制系統(tǒng),控制所述的投影系統(tǒng)和成像系統(tǒng);
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