[實用新型]一種快速定位的磁極整形裝置

有效

• 申請號: 201821350623.1
• 申請日: 2018-08-21
• 公開（公告）號: CN208728364U
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發明（設計）人: 唐福;董蘭軍
• 申請（專利權）人: 襄陽唐福機電科技有限公司
• 主分類號: B21D3/00
• 分類號: B21D3/00
• 代理公司: 武漢藍寶石專利代理事務所(特殊普通合伙) 42242
• 代理人: 廉海濤

1.一種快速定位的磁極整形裝置，包括機架(1)，其特征在于：所述機架(1)的工作臺(2)上部兩側分別固定連接有豎直板(3)，所述豎直板(3)的上端固定連接有支撐架(5)，所述支撐架(5)上安裝有氣缸(6)，所述氣缸(6)活塞桿的下端固定連接有壓板(7)，所述壓板(7)的下部安裝有整形上模(8)，所述機架(1)的工作臺(2)上部表面固定安裝有固定底板(18)，所述固定底板(18)的上部安裝有與整形上模(8)配合的整形下模(9)，所述整形上模(8)的下部固定連接有第二凸塊(15)，且整形上模(8)的下部開設有第二缺口(17)，所述整形下模(9)的上部開設有第一缺口(16)，且整形下模(9)的上部固定連接有第一凸塊(14)。

2.根據權利要求1所述的一種快速定位的磁極整形裝置，其特征在于：所述氣缸(6)的活塞桿一側固定連接有限位桿(4)，所述豎直板(3)的一側開設有限位滑槽(11)，所述限位桿(4)的一端滑動安裝在限位滑槽(11)內。

3.根據權利要求1所述的一種快速定位的磁極整形裝置，其特征在于：所述整形下模(9)的模板上固定連接有導柱(12)，所述整形上模(8)的模板上固定安裝有與導柱(12)配合的導套(13)。

4.根據權利要求1所述的一種快速定位的磁極整形裝置，其特征在于：所述第二缺口(17)設置有兩組，且第二缺口(17)分別設置在第二凸塊(15)的兩側，所述第一缺口(16)對齊設置在第二缺口(17)的正下方。

5.根據權利要求1所述的一種快速定位的磁極整形裝置，其特征在于：所述第一缺口(16)一側側壁的高度大于第一缺口(16)另一側側壁的高度3-5mm，所述第二凸塊(15)凸出整形上模(8)下表面的高度與第一凸塊(14)凹陷整形下模(9)上表面的深度相等。

6.根據權利要求1所述的一種快速定位的磁極整形裝置，其特征在于：所述壓板(7)的上部表面和固定底板(18)的上部表面分別安裝有水平珠(10)。