[實(shí)用新型]選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821346998.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208786148U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔣月國(guó);杭川巖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蔣月國(guó) |
| 主分類(lèi)號(hào): | B01D53/78 | 分類(lèi)號(hào): | B01D53/78;B01D53/56 |
| 代理公司: | 南京正聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32243 | 代理人: | 王素琴 |
| 地址: | 241000 安徽省蕪湖*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 還原劑 選擇性非催化還原 爐膛 脫除氮氧化物 噴射系統(tǒng) 噴槍 本實(shí)用新型 閥位控制器 溫度采集器 總控制系統(tǒng) 控制裝置 通信連接 軟化水 反應(yīng)效率 氨逃逸 消耗 覆蓋 優(yōu)化 | ||
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng),包括爐膛,所述爐膛上設(shè)有控制裝置,所述控制裝置包括DCS總控制系統(tǒng),PLC控制系統(tǒng),溫度采集器,所述爐膛內(nèi)設(shè)有數(shù)個(gè)噴槍,每個(gè)所述噴槍上均設(shè)有還原劑調(diào)節(jié)閥和軟化水調(diào)節(jié)閥,在所述還原劑調(diào)節(jié)閥和軟化水調(diào)節(jié)閥上均設(shè)有閥位控制器,每個(gè)所述閥位控制器均與PLC控制系統(tǒng)通過(guò)通信連接,所述PLC控制系與DCS總控制系統(tǒng)、溫度采集器均是利用通信連接。本實(shí)用新型所述的選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng),其有益效果為,優(yōu)化各支噴槍所覆蓋范圍內(nèi)的還原劑反應(yīng)效率,減少氨逃逸率,節(jié)省還原劑的消耗。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及環(huán)保工程領(lǐng)域,具體涉及一種選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng)。
背景技術(shù)
現(xiàn)有還原脫除氮氧化物的還原劑為氨水或尿素,無(wú)論是氨水還是尿素,與氮氧化物發(fā)生還原反應(yīng)需要在特定的溫度區(qū)間內(nèi)。現(xiàn)有技術(shù)在實(shí)際應(yīng)用中,液態(tài)的還原劑通過(guò)噴槍對(duì)爐膛內(nèi)噴射進(jìn)行還原反應(yīng)前,首先通過(guò)控制系統(tǒng)PLC根據(jù)總控DCS所提供的爐膛內(nèi)氮氧化物值信號(hào),自動(dòng)計(jì)算出所需要的還原劑量以及與還原劑進(jìn)行混合的軟化水量,然后平均分配給每支噴槍進(jìn)行噴射,這種還原劑控制方法即為總量控制。
但由于爐膛內(nèi)的溫度與燃燒負(fù)荷相關(guān)以及燃燒介質(zhì)密切相關(guān),所以爐膛內(nèi)各區(qū)域的溫度不是不變的,并不能確保始終處于發(fā)生還原反應(yīng)的最佳溫度區(qū)間。所以總量控制存在兩個(gè)缺點(diǎn):一是在溫度達(dá)不到還原劑最佳反應(yīng)溫度區(qū)間時(shí),還原劑不能充分反應(yīng),導(dǎo)致反應(yīng)效率降低以及氨泄漏值增加。二是在溫度達(dá)到還原劑最佳反應(yīng)溫度區(qū)間時(shí),由于控制系統(tǒng)的平均分配機(jī)制,大量還原劑未能與氮氧化物反應(yīng)導(dǎo)致了反應(yīng)效率降低,如果在爐膛內(nèi)氮氧化物值無(wú)法下降,且控制系統(tǒng)自動(dòng)判斷為還原劑反應(yīng)噴射量不足,加大還原劑的分配量,造成還原劑消耗量以及氨逃逸量的進(jìn)一步增加。
因此,如何優(yōu)化各支噴槍所覆蓋范圍內(nèi)的還原劑反應(yīng)效率,減少氨逃逸率,節(jié)省還原劑的消耗成為亟需解決的問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型于為了解決上述問(wèn)題,研制出了選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng),以用來(lái)克服上述缺陷,其采用的技術(shù)方案為:選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng),包括爐膛,所述爐膛上設(shè)有控制裝置,所述控制裝置包括DCS總控制系統(tǒng),PLC控制系統(tǒng),溫度采集器,所述爐膛內(nèi)設(shè)有數(shù)個(gè)噴槍,每個(gè)所述噴槍上均設(shè)有還原劑調(diào)節(jié)閥和軟化水調(diào)節(jié)閥,在所述還原劑調(diào)節(jié)閥和軟化水調(diào)節(jié)閥上均設(shè)有閥位控制器,每個(gè)所述閥位控制器均與PLC控制系統(tǒng)通過(guò)通信連接,所述PLC控制系與DCS總控制系統(tǒng)、溫度采集器均是利用通信連接;
所述PLC控制系統(tǒng)接收DCS總控制系統(tǒng)與溫度采集器發(fā)出的信號(hào)并進(jìn)行計(jì)算;
每個(gè)所述閥位控制器接收PLC控制系統(tǒng)發(fā)出的信號(hào)用來(lái)控制還原劑調(diào)節(jié)閥和軟化水調(diào)節(jié)閥的開(kāi)度。
優(yōu)選的,還包括供電裝置,所述供電裝置與爐膛連接,并為整個(gè)爐膛供電。
優(yōu)選的,每個(gè)所述噴槍上均設(shè)有溫度采集器。
優(yōu)選的,還包括靜態(tài)混合器,所述靜態(tài)混合器的一端與所述噴槍連接,其另一端與還原劑調(diào)節(jié)閥、軟化水調(diào)節(jié)閥連接。
本實(shí)用新型所述的選擇性非催化還原脫除氮氧化物的噴射系統(tǒng),其有益效果為:充分考慮到了窯爐內(nèi)溫度變化的因素,當(dāng)溫度不在最佳反應(yīng)區(qū)間時(shí),減少相應(yīng)區(qū)域的還原劑噴出量,降低氨逃逸,減少還原劑無(wú)謂消耗;當(dāng)溫度處于最佳反應(yīng)溫度時(shí),即增加還原劑噴出量,使其充分反應(yīng),優(yōu)化各支噴槍所覆蓋范圍內(nèi)的還原劑反應(yīng)效率,減少氨逃逸率,節(jié)省還原劑的消耗。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為控制裝置的結(jié)構(gòu)框圖;
其中,1-爐膛,2-DCS總控制系統(tǒng),3- PLC控制系統(tǒng),4-噴槍,5-還原劑調(diào)節(jié)閥,6-軟化水調(diào)節(jié)閥,7-溫度采集器,8-靜態(tài)混合器,9-供電裝置,56-閥位控制器。
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