[實用新型]一種醫療用水處理設備

有效

• 申請號: 201821346189.X
• 申請日: 2018-08-21
• 公開（公告）號: CN209338159U
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 楊開;吳金珂;許俊圣
• 申請（專利權）人: 深圳市普羅醫學股份有限公司
• 主分類號: C02F1/20
• 分類號: C02F1/20
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 袁文英

1.一種醫療用水處理設備，其特征在于，包括第一循環系統、第二循環系統和電氣控制系統；

所述第一循環系統包括水箱和介質水處理模塊；

所述第二循環系統包括水箱和真空儲水裝置；

所述真空儲水裝置兩端還與所述介質水處理模塊兩端連接；

所述第一循環系統中，所述介質水處理模塊對所述水箱中的水進行水處理，獲得介質水，并傳輸至所述第二循環系統的真空儲水裝置中存儲；

所述第二循環系統中，所述真空儲水裝置向醫療用水設備提供介質水，每間隔預設時間，所述真空儲水裝置還將其存儲的所述介質水循環至所述第一循環系統的水箱中，以使所述介質水處理模塊對所述介質水再次進行處理，并傳輸至所述真空儲水裝置；

所述電氣控制系統控制所述第一循環系統和第二循環系統的工作狀態。

2.如權利要求1所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述第一循環系統還包括第一電磁閥和第二電磁閥；

所述第二循環系統還包括第三電磁閥和第四電磁閥；

所述第一電磁閥和所述第二電磁閥設置于所述水箱兩端；

所述第三電磁閥和所述第四電磁閥設置于所述真空儲水裝置兩端。

3.如權利要求1所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述介質水處理模塊包括循環水泵單元、真空去氣單元和半導體溫控單元；

所述循環水泵單元與所述真空去氣單元和所述半導體溫控單元連接；

所述真空去氣單元去除所述水箱中水的氣體，獲得去氣水；

所述半導體溫控單元調整所述去氣水的溫度，獲得介質水。

4.如權利要求1至3任一項所述的醫療用水處理設備，其特征在于，第一電磁閥設置于所述水箱與半導體溫控單元之間，控制所述水箱與所述半導體溫控單元之間的水流通；

第二電磁閥設置于所述第一電磁閥和所述真空儲水裝置之間，控制所述真空儲水裝置與所述半導體溫控單元及所述水箱之間的水流通；

第三電磁閥設置于所述水箱與所述真空去氣單元之間，控制所述水箱與所述真空去氣單元之間的水流通；

第四電磁閥設置于所述第三電磁閥與所述真空儲水裝置之間，控制所述真空儲水裝置與所述水箱及所述真空去氣單元之間水流通。

5.如權利要求4所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述真空去氣單元、所述半導體溫控單元和所述水箱啟動時，所述電氣控制系統開啟所述第一電磁閥和所述第二電磁閥；

所述真空去氣單元和所述半導體溫控單元關閉、所述水箱開啟時，所述電氣控制系統開啟所述第三電磁閥和所述第四電磁閥。

6.如權利要求4所述的醫療用水處理設備，其特征在于，僅所述真空儲水裝置啟動時，所述電氣控制系統開啟所述第一電磁閥、所述第二電磁閥、所述第三電磁閥和所述第四電磁閥后，開啟所述真空去氣單元和所述半導體溫控單元；

所述真空去氣單元和所述半導體溫控單元關閉時，所述電氣控制系統關閉所述第一電磁閥、所述第二電磁閥、所述第三電磁閥和所述第四電磁閥。

7.如權利要求4所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述真空去氣單元和所述半導體溫控單元關閉、所述水箱開啟時，所述電氣控制系統開啟所述第一電磁閥、所述第二電磁閥、所述第三電磁閥和所述第四電磁閥；

所述水箱關閉時，所述電氣控制系統關閉所述真空儲水設備。

8.如權利要求1所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述水箱中設置有水位測量裝置和溫度傳感器；

所述水位測量裝置和所述溫度傳感器還與所述電氣控制系統連接。

9.如權利要求1所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述電氣控制系統包括電源模塊、控制模塊和PLC裝置；

所述電源模塊與所述控制模塊和所述PLC裝置連接；

所述控制模塊接收用戶指令，并向所述PLC裝置發送控制信號；

所述PLC裝置根據所述控制信號控制所述第一循環系統和所述第二循環系統的工作狀態。

10.如權利要求9所述的醫療用水處理設備，其特征在于，所述控制模塊包括控制器和顯示器；

所述控制器與所述顯示器和所述PLC裝置連接；

所述顯示器接收所述用戶指令。