[實用新型]一種兩道硅片上料機構

有效

• 申請號: 201821337481.5
• 申請日: 2018-08-17
• 公開（公告）號: CN208790639U
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: 姜明
• 申請（專利權）人: 蘇州誠拓機械設備有限公司
• 主分類號: B65G47/74
• 分類號: B65G47/74
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

1.一種兩道硅片上料機構，包括上料底板(131)、上料傳動機構和上料傳送機構(141)，其特征在于：還包括支撐機構、支撐平板(138)和支撐柱(139)，所述上料底板(131)上設置有上料傳動機構，所述上料傳動機構上連接有支撐機構，所述支撐機構上連接有支撐平板(138)，所述支撐平板(138)上設置有支撐柱(139)，所述支撐柱(139)上設置有上料傳送機構(141)，所述上料傳送機構(141)數量為2個。

2.如權利要求1所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述上料傳動機構包括上料驅動機構(142)、上料聯軸器(143)、滾珠絲桿(134)、支撐滾珠絲桿(134)的軸承座(133)、與滾珠絲桿(134)配合使用的螺母(135)和與螺母(135)連接的傳動塊(144)。

3.如權利要求2所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述支撐機構包括滑軌(136)、與滑軌(136)配合的往復移動滑動塊(137)、連接在滑動塊(137)上的支撐塊(145)。

4.如權利要求2所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述傳動塊(144)與支撐平板(138)連接。

5.如權利要求3所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述滑軌(136)的兩端分別設置有阻擋塊(132)。

6.如權利要求1所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述上料傳送機構(141)為皮帶傳動。

7.如權利要求1所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述上料傳動機構運動方向和上料傳送機構(141)運動方向垂直。

8.如權利要求1所述的一種兩道硅片上料機構，其特征在于：所述支撐柱(139)數量為8個。