[實用新型]一種低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 201821335004.5 | 申請日: | 2018-08-17 |
| 公開(公告)號: | CN208917083U | 公開(公告)日: | 2019-05-31 |
| 發明(設計)人: | 黃亮;萬軍鵬;譚軍毅;林彬 | 申請(專利權)人: | 北京漢能光伏投資有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 北京智晨知識產權代理有限公司 11584 | 代理人: | 張婧 |
| 地址: | 101400 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 低輻射鍍膜玻璃 玻璃基 本實用新型 膜系 膜堆 太陽能技術領域 可見光透過率 膜層穩定性 光波產生 光伏組件 最外層膜 低輻射 建筑門 波段 幕墻 制備 應用 | ||
1.一種低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,包括玻璃基底以及位于所述玻璃基底至少一個表面的膜堆,所述膜堆包括n組層疊的膜系、和位于所述n組膜系的最外層膜上的Si3N4膜;所述每組膜系從靠近所述玻璃基底向遠離所述玻璃基底的方向依次包括:SiO2層,SiONx層,Si3N4層,SiONx層,SiO2層,和SiONx層。
2.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,n為11~43。
3.根據權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述n組膜系中,每層SiO2的厚度為100-450 ?、每層SiONx的厚度各自獨立地為150-250 ?、每層Si3N4的厚度為15-120 ?;位于所述n組膜系的最外層膜上的Si3N4膜的厚度為15-120 ?。
4.根據權利要求3所述的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,所述膜堆的總厚度為15~21μm。
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