[實用新型]一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置

有效

• 申請號: 201821322318.1
• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN208795694U
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發明（設計）人: 潘洋;劉成園;楊玖重;戚可可;許鳴皋;臧建業;熊英
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: G01N27/64
• 分類號: G01N27/64
• 代理公司: 合肥金安專利事務所(普通合伙企業) 34114
• 代理人: 金惠貞

1.一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，包括質譜儀、解析電噴霧電離機構；所述解析電噴霧電離機構包括霧化器（2），霧化器（2）的進口通過進料毛細管（1）連通著注射器（3），霧化器（2）的出口連通著電噴霧針（4），霧化器（2）的中部連通著霧化氣管（10）；電噴霧針（4）的出口端對應著二維步進電機（6）的工作臺；其特征在于：還包括光電離機構，所述光電離機構包括轉接機構（8）和光源機構；

所述轉接機構（8）包括管狀的光電離室（82）和取樣毛細管（81），所述光電離室（82）的一端為出樣端，密封連接著質譜儀入口（7）的傳輸毛細管（71），所述出樣端內同軸設有連通光電離室（82）的導流管（83），導流管（83）的管徑小于光電離室（82）的管徑；與導流管（83）徑向對應的光電離室（82）的徑向一側連通著真空抽管（84）；

光電離室（82）的另一端為光源端，密封連接著光源機構的光源，與光源端相鄰的光電離室（82）的徑向一側連通著取樣毛細管（81）；

所述光源機構為同步輻射光及激光光電離機構（11）或真空紫外光源機構（9）；

結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像分析時，將載有被測物的載玻片（5）放置在二維步進電機（6）的工作臺，將取樣毛細管（81）的取樣端口對應著載玻片（5），打開光源機構的光源，開啟霧化器（2），載玻片（5）表面的被測物通過電噴霧針（4）噴出的溶劑解析，進而通過取樣毛細管（81）到達光電離室（82）被光源電離，離子化的被測物進入質譜儀被檢測分析和成像，通過二維步進電機（6）的移動實現載玻片（5）上被測物的完整分析和成像。

2.根據權利要求1所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：所述光電離室（82）和導流管（83）的入口之間由喇叭狀管光滑過渡連接；所述光電離室（82）的內徑和導流管（83）的外徑之間的間距為1-2 mm；光電離室（82）的內徑為4-8 mm；導流管（83）的內徑為1.2-1.6 mm，取樣毛細管（81）內徑為0.5-1.5 mm。

3.根據權利要求1所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：工作時，所述光電離室（82）和取樣毛細管（81）的溫度均為250-380 ℃，光電離室（82）的真空度為2*10³-2*10⁴ Pa。

4.根據權利要求1所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：所述同步輻射光及激光光電離機構（11）包括同步輻射光或者激光（114），同步輻射光或者激光（114）通過差分室（111）、透過窗片（112）進入光電離室（82），窗片（112）與光電離室（82）之間通過壓環（113）擠壓兩者之間硅膠墊密封，同步輻射光及激光光電離機構（11）中差分室（111）真空度<10^-2 Pa，取樣毛細管（81）出口與窗片（113）之間的距離<5mm。

5.根據權利要求4所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：所述窗片（112）的材料為氟化鎂（MgF₂）或氟化鋰（LiF），窗片的厚度為2-4mm。

6.根據權利要求1所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：所述真空紫外光源機構（9）包括真空紫外燈（91），真空紫外燈通過上蓋板（92）和下蓋板（93）與光電離室（82）密封連接，取樣毛細管（81）出口與真空紫外燈（91）表面距離小于6mm。

7.根據權利要求3所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：所述取樣毛細管（81）和載玻片（5）之間呈5～15o度；電噴霧針（4）和載玻片（5）之間呈30～60o度，電噴霧針（4）的出口端與取樣毛細管（81）之間的水平距離為10～40mm。

8.根據權利要求3所述的一種結合解吸電噴霧電離的光電離質譜成像裝置，其特征在于：所述霧化器（2）中加入少量輔助光電離的溶劑，所述溶劑為甲苯、丙酮、苯甲醚、氯苯、溴苯、二硫化碳中的一種。