[實用新型]一種能產(chǎn)生波長為228nm深紫外全固態(tài)激光裝置

有效

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• 申請日: 2018-08-16
• 公開（公告）號: CN208767610U
• 公開（公告）日: 2019-04-19
• 發(fā)明（設計）人: 李再金;李林;趙志斌;曾麗娜;曲軼;彭鴻雁
• 申請（專利權）人: 海南師范大學
• 主分類號: H01S3/0941
• 分類號: H01S3/0941;H01S3/10;H01S3/109
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種能產(chǎn)生波長為228nm深紫外全固態(tài)激光裝置，該裝置依次包括808.5nm半導體激光二極管；前后表面鍍有808.5nm處透過率大于99%光學膜的聚焦鏡；前表面鍍有914nm處高反射率大于99%、808.5nm、1064nm和1342nm處透過率大于95%的光學膜，后表面鍍有914nm處透過率大于99%、1064nm和1342nm處透過率大于95%的光學膜的Nd:YVO₄激光晶體；前表面鍍有914nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%的光學膜，后表面鍍有457nm處高反射率大于99%、914nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%的光學膜的平面鏡M1；前后表面鍍有914nm和457nm處透過率大于99%光學膜的LBO倍頻晶體；前表面鍍有914nm處高反射率大于99%、457nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%的光學膜，后表面鍍有457nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%、228nm處高反射率大于98%光學膜的平面鏡M2；前后表面鍍有457nm和228nm處透過率大于99%光學膜的BBO倍頻晶體；凹面表面鍍有457nm處高反射率大于99%、228nm處透過率大于95%的光學膜，平面表面鍍有228nm處透過率大于99%的凹平面鏡M3；中心波長228nm±5nm、半高全寬35nm±10nm和峰值透過率大于30%、截止帶為350nm到1150nm的濾光片。該裝置實現(xiàn)了228nm深紫外全固態(tài)激光的輸出。

技術領域

本發(fā)明涉及全固態(tài)激光技術領域，特別涉及一種228nm深紫外激光發(fā)生裝置。

背景技術

激光材料處理和加工的原理是基于材料和工件對激光的吸收，最終導致激光對材料的破壞。激光的波長越短，光子的量子能量就越大，在同樣吸收情況下，激光對材料的破壞就越強，激光的材料處理及加工就越有效。而且，絕大多數(shù)材料對激光的吸收在可見光到深紫外區(qū)隨波長縮短而明顯增加。同樣光束質(zhì)量及光斑尺寸的激光，聚焦點大小與波長成反比，因此要求越精密的加工，需要的激光波長就越短。這就是激光加工領域不斷追求紫外及深紫外激光的原因。因此，深紫外激光是激光材料處理及精密加工領域中必不可少的激光光源。同時，深紫外激光可使激光精密加工范圍從金屬材料拓展到陶瓷、塑料、玻璃、有機材料和生化材料、半導體材料、聚合物以及其他特種材料等。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提出一種能產(chǎn)生波長為228nm深紫外全固態(tài)激光裝置。

一種能產(chǎn)生波長為228nm深紫外全固態(tài)激光裝置，包括半導體激光二極管、聚焦鏡、Nd:YVO₄激光晶體、平面鏡M1、LBO倍頻晶體、平面鏡M2、BBO倍頻晶體、凹平面鏡M3和濾光片。

其特征在于：半導體激光二極管輸出波長為808.5nm，連續(xù)輸出最大功率為5W。

聚焦鏡前后表面鍍有808.5nm處透過率大于99%的光學膜。

Nd:YVO₄激光晶體前表面鍍有914nm處高反射率大于99%、808.5nm、1064nm和1342nm處透過率大于95% 的光學膜，后表面鍍有914nm處透過率大于99%、1064nm和1342nm處透過率大于95%的光學膜。

平面鏡M1前表面鍍有914nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%的光學膜，后表面鍍有457nm處高反射率大于99%、914nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%的光學膜。

LBO倍頻晶體前后表面鍍有914nm和457nm處透過率大于99%的光學膜。

平面鏡M2前表面鍍有914nm處高反射率大于99%、457nm、1064nm和1342nm處透過率大于99%的光學膜，后表面鍍有457nm、 1064nm和1342nm處透過率大于99%、228nm處高反射率大于98%的光學膜。

BBO倍頻晶體前后表面鍍有457nm和228nm處透過率大于99%的光學膜。