[實用新型]一種電容器金屬化薄膜結構有效
| 申請號： | 201821291816.4 | 申請日： | 2018-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN208655425U | 公開（公告）日： | 2019-03-26 |
| 發明（設計）人： | 章陽華;衛麗;石磊 | 申請（專利權）人： | 安徽長容電子有限公司 |
| 主分類號： | H01G4/005 | 分類號： | H01G4/005;H01G4/18;H01G4/232;H01G4/32;H01G4/33 |
| 代理公司： | 合肥三川專利代理事務所(普通合伙) 34150 | 代理人： | 李霞 |
| 地址： | 244100 安徽省銅*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電容器 金屬層 絕緣薄膜 金屬化薄膜 本實用新型 金屬薄膜 噴金 噴金附著力 上表面 附著 減小 內阻 平齊 | ||
【權利要求書】：
1.一種電容器金屬化薄膜結構，其特征在于：包括金屬薄膜本體，所述金屬薄膜本體包括絕緣薄膜、金屬層，所述金屬層附著在絕緣薄膜上表面，所述金屬層的噴金端與絕緣薄膜端部平齊，所述金屬層的另一端與絕緣薄膜的另一端之間設有一段留邊區；所述金屬層的噴金端端面上設有凹槽。
2.如權利要求1所述的一種電容器金屬化薄膜結構，其特征在于：所述金屬層的噴金端厚度大于另一端的厚度。
3.如權利要求1所述的一種電容器金屬化薄膜結構，其特征在于：所述絕緣薄膜采用聚丙烯薄膜。
4.如權利要求1所述的一種電容器金屬化薄膜結構，其特征在于：所述的金屬薄膜本體雙層交錯布置。
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