[實(shí)用新型]一種慢提拉自動(dòng)傾斜托架有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821289228.7 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208596665U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 左國(guó)軍;朱家全 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州捷佳創(chuàng)精密機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/673 | 分類號(hào): | H01L21/673 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彥;胡朝陽(yáng) |
| 地址: | 213000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 托架 工作框 支撐 支撐裝置 自動(dòng)傾斜 提拉 本實(shí)用新型 橫向平面 移動(dòng) | ||
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種慢提拉自動(dòng)傾斜托架,包括托架,其特征在于,所述托架的橫向平面上至少設(shè)有一套支撐工作框的支座;該支座包括:設(shè)于一側(cè)的用于支撐工作框一側(cè)的支撐塊、設(shè)于另一側(cè)的用于支撐所述工作框另一側(cè)的頂起支撐裝置,當(dāng)所述托架下降后,所述頂起支撐裝置頂部的移動(dòng)快高于相對(duì)一側(cè)的支撐塊的位置。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能硅片的槽式清洗設(shè)備和黑硅制絨設(shè)備,尤其涉及一種用于硅片的承載件的慢提拉自動(dòng)傾斜托架。
背景技術(shù)
在太陽(yáng)能硅片的槽式清洗設(shè)備和黑硅制絨設(shè)備中,需要將裝載硅片的工作框,如,硅片盒或花籃等,放在L型的慢提拉托架的橫向的水平面上,再將該慢提拉托架放入槽體內(nèi)進(jìn)行水清洗,之后再緩慢提升達(dá)到硅片的預(yù)脫水效果。目前,現(xiàn)有使用的慢提拉結(jié)構(gòu),由于整個(gè)慢提過(guò)程裝有硅片盒并不會(huì)產(chǎn)生傾斜、抖動(dòng)等動(dòng)作,當(dāng)慢提結(jié)束時(shí),硅片盒的卡齒內(nèi)殘留的水珠就容易出現(xiàn)在任何一硅片平面上。而一組片盒內(nèi)含有100片硅片,也就無(wú)法確保殘留水珠在統(tǒng)一的硅片平面,當(dāng)干燥水時(shí),留有卡齒印或卡齒印不在統(tǒng)一的平面,就無(wú)法確保后道工序最優(yōu)處理。
因此,如何克服現(xiàn)有慢提托架慢提結(jié)束后,不能保持工作框卡齒內(nèi)的水珠出現(xiàn)在統(tǒng)一的硅片平片上,以致烘干后出現(xiàn)的卡齒印或卡齒印不在統(tǒng)一的硅片平面上,無(wú)法確保后道工序最優(yōu)處理的缺陷是業(yè)界亟待解決的問(wèn)題。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型為了解決現(xiàn)有慢提拉托架慢提拉結(jié)束后,無(wú)法確保水珠殘留在統(tǒng)一的硅片平面上,以致干燥后留有卡齒印或卡齒印不在統(tǒng)一的硅片平面上,無(wú)法確保后道工序最優(yōu)處理的問(wèn)題,提出這一種在提升過(guò)程中可產(chǎn)生傾斜的狀態(tài)的慢提拉自動(dòng)傾斜托架。
本實(shí)用新型提出的一種慢提拉自動(dòng)傾斜托架,其包括:托架,該托架的橫向平面上至少設(shè)有一套支撐工作框的支座;該支座包括:設(shè)于一側(cè)的用于支撐工作框一側(cè)的支撐塊、設(shè)于另一側(cè)的用于支撐所述工作框另一側(cè)的頂起支撐裝置,當(dāng)所述托架下降后,所述頂起支撐裝置頂部的移動(dòng)快高于相對(duì)一側(cè)的支撐塊的位置。
較優(yōu)的,所述的支撐塊包括設(shè)于所述托架上、下表面的上固定塊和下固定塊。
較優(yōu)的,所述的頂起支撐裝置包括與所述托架固定的下加寬固定塊,設(shè)于該下加寬固定塊上的頂起機(jī)構(gòu)。
較優(yōu)的,所述的頂起機(jī)構(gòu)包括豎直設(shè)置的導(dǎo)軌支撐架,設(shè)于該導(dǎo)軌支撐架中的折彎形的滑動(dòng)導(dǎo)軌;還包括沿所述下加寬固定塊上下滑動(dòng)的導(dǎo)軸、設(shè)于該導(dǎo)軸頂部的所述移動(dòng)快,通過(guò)一轉(zhuǎn)軸設(shè)于所述下加寬固定塊的偏心擺動(dòng)快,該偏心擺動(dòng)快的外緣與所述移動(dòng)快接觸,當(dāng)所述托架上下運(yùn)動(dòng)時(shí),所述的偏心擺動(dòng)快在所述滑動(dòng)導(dǎo)軌中滑動(dòng)并繞所述的轉(zhuǎn)軸擺動(dòng)。
較優(yōu)的,所述擺動(dòng)塊的擺動(dòng)角度范圍為0-90°。
本實(shí)用新型使得慢提拉托架上升下降的同時(shí)會(huì)產(chǎn)生傾斜、放平等狀態(tài)。即當(dāng)所述托架下降后,頂起支撐裝置頂部的移動(dòng)快高于相對(duì)一側(cè)的支撐塊的位置,放置于該移動(dòng)快和支撐塊上的工件框也將產(chǎn)生一端高一端低的偏差,同時(shí)工件框內(nèi)的硅片也隨著傾斜。當(dāng)慢提拉托架開(kāi)始上升時(shí)硅片傾斜向上,而工作框卡齒殘留的水主要滴流在硅片朝上的表面。當(dāng)慢提拉托架提升結(jié)束脫離槽體時(shí),工作框放平,硅片隨之豎直,殘留其上表面的藥水向下流失。如此確保殘留水珠在統(tǒng)一的硅片平面,以致干燥后不留有卡齒印或保持卡齒印在統(tǒng)一的硅片平面山,可確保后道工序最優(yōu)處理。本實(shí)用新型利用本身的機(jī)械結(jié)構(gòu)的設(shè)置,而在沒(méi)有增加動(dòng)力裝置的情況下達(dá)到工件框傾斜的效果,避免了增加動(dòng)力系統(tǒng)容易出現(xiàn)速度、節(jié)拍等方面偏差導(dǎo)致的性能不穩(wěn)定因素,同時(shí)節(jié)約了增加動(dòng)力系統(tǒng)所產(chǎn)生的較大制作成本及后期維護(hù)成本。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例托架出水后的示意圖;
圖2為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例托架入水后的示意圖;
圖3為導(dǎo)軌支撐架的示意圖;
圖4為擺動(dòng)快頂起移動(dòng)快的示意圖。
具體實(shí)施方式
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





