[實用新型]一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置

有效

• 申請號: 201821281687.0
• 申請日: 2018-08-09
• 公開（公告）號: CN208685106U
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發明（設計）人: 張格梅
• 申請（專利權）人: 張格梅
• 主分類號: C30B25/00
• 分類號: C30B25/00;C30B29/36
• 代理公司: 南京申云知識產權代理事務所(普通合伙) 32274
• 代理人: 邱興天

1.一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置，其特征在于：包括金屬液化系統(1410)、金屬多級碎化系統(1420)、化合物反應系統(1430)及化合物晶粒沉積生長系統(1440)；金屬液化系統(1410)設置在金屬多級碎化系統(1420)的上方，化合物反應系統(1430)設置在金屬多級碎化系統(1420)側面，而化合物晶粒沉積生長系統(1440)設置在化合物反應系統(1430)的側面。

2.根據權利要求1所述的一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置，其特征在于：所述的金屬液化系統(1410)包括金屬真空容器(1511)及金屬導流管(1512)；金屬導流管(1512)連通于金屬真空容器(1511)的底部，而另一端直接與金屬多級碎化系統(1420)連通。

3.根據權利要求1所述的一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置，其特征在于：所述的金屬多級碎化系統(1420)包括金屬碎化室(1621)、金屬高壓霧化機構(1622)、金屬高溫汽化機構(1623)及未碎化的金屬液排出口(1624)；金屬高壓霧化機構(1622)設置在金屬碎化室(1621)的頂部，金屬高溫汽化機構(1623)設置在化合物反應系統(1430)頂部的入口處，未碎化的金屬液排出口(1624)設置在金屬碎化室(1621)的底部。

4.根據權利要求1所述的一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置，其特征在于：所述的化合物反應系統(1430)包括化合物反應室(1731)、化合物反應室入口(1732)、化合物晶粒出口(1733)及化合物粗顆粒排出口(1734)；化合物反應室入口(1732)設置在化合物反應室(1731)的頂部，化合物晶粒出口(1733)設置在化合物反應室(1731)的中部，化合物粗顆粒排出口(1734)設置在化合物反應室(1731)的底部。

5.根據權利要求1所述的一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置，其特征在于：所述的化合物晶粒沉積生長系統(1440)包括化合物沉積生長室(1841)、化合物沉積生長室入口(1845)、多余氣體隔離板(1846)、化合物晶粒隔離板(1847)、化合物沉積生長槽(1848)及沉積生長槽托板(1849)；化合物沉積生長室(1841)分為三個區域：冷區(1842)、低溫區(1843)及高溫區(1844)；冷區(1842)設置在化合物沉積生長室(1841)的上部，低溫區(1843)設置在化合物沉積生長室(1841)的中部，高溫區(1844)設置在化合物沉積生長室(1841)的下部，化合物沉積生長室入口(1845)設置在化合物沉積生長室(1841)中部的低溫區內，多余氣體隔離板(1846)設置在冷區(1842)與低溫區(1843)之間，化合物晶粒隔離板(1847)設置在低溫區(1843)與高溫區(1844)之間，化合物沉積生長槽(1848)設置在化合物沉積生長室(1841)底部的上方，沉積生長槽托板(1849)設置在化合物沉積生長槽(1848)的下面。

6.根據權利要求5所述的一種制備大尺寸化合物塊晶的裝置，其特征在于：所述的多余氣體隔離板(1846)為多余氣體隔離擋板或多余氣體隔離網柵，化合物晶粒隔離板(1847)為化合物晶粒隔離擋板或化合物晶粒隔離網柵。