[實用新型]一種IPA補給系統有效
| 申請號： | 201821278326.0 | 申請日： | 2018-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN208521905U | 公開（公告）日： | 2019-02-19 |
| 發明（設計）人： | 吳科良;岳志剛;辛君;吳龍江;林宗賢 | 申請（專利權）人： | 德淮半導體有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 223300 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 儲液罐 機臺 補給系統 本實用新型 加料裝置 產出率 控制閥 晶圓 儲備 | ||
1.一種IPA補給系統，其特征在于，所述IPA補給系統包括：
第一儲液罐，所述第一儲液罐與機臺相連接，用于向所述機臺供應IPA溶液；
第二儲液罐，所述第二儲液罐位于所述第一儲液罐的上方，所述第二儲液罐與加料裝置相連接，用于為所述第一儲液罐儲備所述IPA溶液；
控制閥，位于所述第一儲液罐及所述第二儲液罐之間，并與所述第一儲液罐及第二儲液罐相連接。
2.根據權利要求1所述的IPA補給系統，其特征在于：所述控制閥包括電磁閥及氣動閥中的一種或組合。
3.根據權利要求1所述的IPA補給系統，其特征在于：所述第一儲液罐及第二儲液罐具有概呈相同的形貌。
4.根據權利要求1所述的IPA補給系統，其特征在于：所述第一儲液罐的底部通過管道與所述機臺相連接。
5.根據權利要求1所述的IPA補給系統，其特征在于：所述IPA補給系統還包括控制設備，所述控制設備連接所述控制閥。
6.根據權利要求1所述的IPA補給系統，其特征在于：所述IPA補給系統還包括稱重設備，用于稱量所述第一儲液罐及第二儲液罐的質量，所述稱重設備包括最低擋及最高擋。
7.根據權利要求6所述的IPA補給系統，其特征在于：所述稱重設備還包括下限擋及上限擋，所述稱重設備還包括報警器，當所述稱重設備處于所述下限擋及上限擋時，所述報警器啟動。
8.根據權利要求7所述的IPA補給系統，其特征在于：所述報警器連接所述機臺，當所述報警器啟動時，所述機臺停機。
9.根據權利要求6所述的IPA補給系統，其特征在于：當所述稱重設備處于所述最低擋時，所述控制閥處于關閉狀態。
10.根據權利要求6所述的IPA補給系統，其特征在于：當所述稱重設備處于所述最高擋時，所述控制閥處于開啟狀態。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
