[實(shí)用新型]一種真空吸附治具有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821265617.6 | 申請(qǐng)日： | 2018-08-07 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN208880547U | 公開（公告）日： | 2019-05-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張炯飛 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 浙江舜宇光學(xué)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B25B11/00 | 分類號(hào)： | B25B11/00;G03B43/00;G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京謹(jǐn)誠君睿知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11538 | 代理人： | 陸鑫;延慧 |
| 地址： | 315400 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 孔板 基板 通孔 抽氣裝置 氣源裝置 真空吸附 上表面 輸氣孔 吸氣孔 治具 送氣 本實(shí)用新型 吸附狀態(tài) 真空環(huán)境 陣列設(shè)置 平整度 抽氣 取下 吸附 連通 送入 抽出 保證 脫離 外部 | ||
1.一種真空吸附治具，其特征在于，包括：孔板(1)和基板(2)；
所述孔板(1)陣列設(shè)置有通孔(11)，所述基板(2)上設(shè)置有凹槽(21)，所述孔板(1)與所述基板(2)相互連接，且所述通孔(11)與所述凹槽(21)相互連通；
所述基板(2)上還設(shè)置有用于對(duì)所述凹槽(21)抽氣的吸氣孔(22)，以及用于對(duì)所述凹槽(21)送氣的輸氣孔(23)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述吸氣孔(22)和所述輸氣孔(23)分別由所述基板(2)的外側(cè)面起始并延伸至所述凹槽(21)的內(nèi)側(cè)面終止，且所述吸氣孔(22)和所述輸氣孔(23)相對(duì)設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)設(shè)置有墊片凹槽(13)以及可拆卸的安裝在所述墊片凹槽(13)中的墊片(14)；
所述墊片(14)的厚度大于所述墊片凹槽(13)的深度和所述孔板上表面(12)承載的物料的厚度之和。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空吸附治具，其特征在于，所述墊片凹槽(13)至少為三個(gè)，且所述墊片凹槽(13)呈環(huán)形排列。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4之一所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)還設(shè)置有定位柱(15)；
所述定位柱(15)至少為兩個(gè)，且相互間隔設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述凹槽(21)為迂回型的線性凹槽，且所述吸氣孔(22)和所述輸氣孔(23)分別位于所述凹槽(21)的首尾兩端。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述吸氣孔(22)和所述輸氣孔(23)分別由所述基板(2)的外側(cè)面起始并延伸至所述凹槽(21)的內(nèi)側(cè)面終止；
所述輸氣孔(23)至少為兩個(gè)，且所述輸氣孔(23)相互等間隔的設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述基板(2)上至少設(shè)置有一條環(huán)繞在所述凹槽(21)周圍的第一環(huán)狀密封結(jié)構(gòu)，所述孔板(1)上設(shè)置有與所述第一環(huán)狀密封結(jié)構(gòu)相匹配的第二環(huán)狀密封結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空吸附治具，其特征在于，所述第一環(huán)狀密封結(jié)構(gòu)環(huán)狀凸臺(tái)或環(huán)狀凹槽，所述第二環(huán)狀密封結(jié)構(gòu)為環(huán)狀凹槽或環(huán)狀凸臺(tái)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)或所述基板(2)上還設(shè)置有用于安裝手柄的連接結(jié)構(gòu)(3)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述通孔(11)為矩形陣列設(shè)置或環(huán)形陣列設(shè)置；
若所述通孔(11)為矩形陣列設(shè)置，所述通孔(11)沿橫向和縱向分別均勻間隔分布,且沿縱向和橫向的間隔是相等的；
若所述通孔(11)為環(huán)形陣列設(shè)置，所述通孔(11)沿圓周方向等角度均勻間隔排列。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述通孔(11)的孔徑小于2mm。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空吸附治具，其特征在于，所述孔板(1)的孔板上表面(12)的平面度公差小于2μm。
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