[實用新型]一種中小型軸承無劃痕支點的結構

有效

• 申請號: 201821262135.5
• 申請日: 2018-08-06
• 公開（公告）號: CN209083826U
• 公開（公告）日: 2019-07-09
• 發明（設計）人: 孫福利;王銳;蔡黎黎
• 申請（專利權）人: 哈爾濱軸承集團公司
• 主分類號: F16C33/64
• 分類號: F16C33/64;B24B5/307
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 劉士寶

一種中小型軸承無劃痕支點的結構，涉及軸承加工。為了解決對軸承外圈磨加工、超精外滾道時支點出現痕跡，需要多加一道工序去除痕跡的問題。支點體選用45#材料，與支點體相結合的材料為合金塊，兩者通過真空銀焊完成，涂層面的材料選用為PVD材料，涂層面覆蓋到合金塊上，兩者通過物理氣相沉積結合到一起，工件在與涂層面接觸時不會產生劃痕，可以去除修磨外徑的工序，同時增加支點本身使用壽命，降低生產成本。

技術領域

本實用新型屬于軸承加工領域。

背景技術

目前國內軸承行業軸承外圈磨加工支點的材料基本上是合金，在進行加工時均會在外圈上產生支點痕跡，必須通過修磨外徑去除支點痕跡，這樣就需要添加一道工序來去除痕跡，不僅增加了生產周期而且還提高了生產成本。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決生產周期增加生產成本增加這一問題，進而提出一種中小型軸承無劃痕支點的結構。

本實用新型計劃采用新型支點，支點由3部分組成，包括支點體、合金塊、涂層面，支點體用45#材料，與支點體相結合的材料為合金塊，二者結合通過真空銀焊完成，最后的一部分涂層面為PVD材料，PVD與合金塊通過物理氣相沉積結合到一起。(物理氣相沉積，在真空中，低電壓，高電流作用下，使鍍料蒸發，分子或離子經過碰撞后產生多種反應，分子或離子在基體上沉積。)

本實用新型與現有技術相比具有以下效果：加工工件時，工件與支點體相接觸不會產生劃痕，同時支點體使用壽命增加。

附圖說明

圖1為一種中小型軸承無劃痕支點的結構的主視圖；

圖2為一種中小型軸承無劃痕支點的結構的側視圖；

圖3為本實用新型所述的一種中小型軸承無劃痕支點的結構的主視圖；

圖4為本實用新型所述的一種中小型軸承無劃痕支點的結構的側視圖。

具體實施方式

為了使本實用新型的目的、實施方式及優點更加清楚明白，以下結合附圖對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施方式僅僅用以解釋本實用新型，并不用于限定本實用新型。

具體實施方式一、參照圖3和圖4具體說明本實用新型實施方式，本實用新型所述一種中小型軸承無劃痕支點的結構，其特征在于，包括支點體(1)、合金塊(2)、涂層面(3)；

支點體(1)選用45#材料，與支點體(1)相結合的材料為合金塊(2)，兩者通過真空銀焊完成，涂層面(3)的材料選用為PVD材料，PVD覆蓋到合金塊(2)上，兩者通過物理氣相沉積結合到一起，通過采用新型材料涂層面(3)而對支點是否有劃痕進行試驗，支點沒有對外徑產生支承痕跡。

具體實施方式二、根據具體實施方式一所述的方法，其特征在于步驟三中涂層面(3) 所選用的材料為PVD材料，將PVD覆蓋到合金塊(2)表面；

具體方法為：使用PVD覆蓋合金塊(2)時，選取工件與支點體(1)易接觸的表面進行覆蓋。

具體實施方式三、根據具體實施方式一所述的方法，其特征在于步驟三中PVD覆蓋到合金塊(2)上，兩者通過物理氣相沉淀結合到一起；

具體方法為：在真空中，低電壓，高電流作用下，使鍍料蒸發，分子或離子經過碰撞后產生多種反應，分子或離子在基體上沉積。

在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“結合”、“覆蓋”、應做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接；可以是局部覆蓋或整體覆蓋；對于本領域的普通技術人員而言，具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。

以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。