[實用新型]用于近紅外窄帶濾光片的AR膜層及濾光片

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821255167.2
• 申請日: 2018-08-06
• 公開（公告）號: CN208421290U
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳策;丁維紅;肖念恭;陳吉利
• 申請（專利權(quán)）人: 信陽舜宇光學(xué)有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 北京謹誠君睿知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11538
• 代理人: 陸鑫;延慧

1.一種用于近紅外窄帶濾光片的AR膜層，所述AR膜層(1)鍍制所述濾光片的玻璃基板(2)上，其特征在于，所述AR膜層(1)包括第一折射率材料層和第二折射率材料層或者包括第一折射率材料層、第二折射率材料層和第三折射率材料層；

所述第三折射率材料層的折射率大于所述第一折射率材料層折射率，所述第二折射率材料層的折射率大于所述第三折射率材料層的折射率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AR膜層，其特征在于，沿遠離所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜層(1)的最外層為第一折射率材料層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的AR膜層，其特征在于，沿著遠離所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜層(1)的結(jié)構(gòu)依次為(LH)*q、L，其中，L表示第一折射率材料層、H表示第二折射率材料層，(LH)*q表示第一折射率材料層和第二折射率材料層交替設(shè)置q次，q為大于等于1的整數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的AR膜層，其特征在于，沿著遠離所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜層(1)的結(jié)構(gòu)依次為M、(LH)*k、L，其中M表示第三折射率材料層、L表示第一折射率材料層、H表示第二折射率材料層，(LH)*k表示第一折射率材料層和第二折射率材料層交替設(shè)置k次，k為大于等于1的整數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的AR膜層，其特征在于，沿著遠離所述玻璃基板(2)的方向，所述AR膜層(1)的結(jié)構(gòu)依次為(LH)*n、L、M、(LH)*p、L，其中，L表示第一折射率材料層、H表示第二折射率材料層，(LH)*n表示第一折射率材料層和第二折射率材料層交替設(shè)置n次，n為大于等于0的整數(shù),(LH)*p表示第一折射率材料層和第二折射率材料層交替設(shè)置p次，p為大于等于1的整數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求3-5任一項所述的AR膜層，其特征在于，所述第二折射率材料層物理厚度與所述第一折射率材料層物理厚度滿足關(guān)系式：0.05≤D_L/D_H≤20，所述第三折射率材料層物理厚度與所述第二折射率材料層物理厚度滿足關(guān)系式：0.02≤D_M/D_H≤50。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AR膜層，其特征在于，所述第二折射率材料層為氫化硅層，在800-1200nm波長范圍內(nèi)的折射率大于3，消光系數(shù)小于0.002；

所述第二折射率材料層在850nm處折射率大于3.6，在940nm處折射率大于3.55。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的AR膜層，其特征在于，所述氫化硅層為濺射反應(yīng)鍍制材料層，濺射溫度范圍為80-300攝氏度、氫氣流量為10-50sccm、濺射速率為0.1nm/s-1nm/s。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AR膜層，其特征在于，在800-1200nm波長范圍內(nèi)，所述第三折射率材料層的折射率小于4，所述第一折射率材料層的折射率小于3。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的AR膜層，其特征在于，所述AR膜層(1)在350-1200nm波長范圍內(nèi)具有一個通帶波段、一個截止波段和一個過渡波段，沿著從350nm至1200nm的方向，所述截止波段、所述過渡波段和所述通帶波段順序排布；

所述通帶波段的透過率大于90％；

所述過渡波段的透過率為0.1％-90％；

所述截止波段的透過率小于0.1％。

11.一種包含權(quán)利要求1-10任一項所述的AR膜層的濾光片，其特征在于，包括玻璃基板(2)和鍍制在所述玻璃基板(2)上的AR膜層(1)。