[實用新型]掩模板熱效應(yīng)補(bǔ)償?shù)难a(bǔ)償裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821254256.5
• 申請日: 2018-08-06
• 公開（公告）號: CN208689362U
• 公開（公告）日: 2019-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/00
• 代理公司: 上海市錦天城律師事務(wù)所 31273
• 代理人: 何金花

1.一種掩模板熱效應(yīng)補(bǔ)償?shù)难a(bǔ)償裝置，包含一光刻曝光機(jī)，用于對同一批次的多片晶圓進(jìn)行曝光，其特征在于，所述光刻曝光機(jī)內(nèi)設(shè)置光掩模板，所述光掩模板包含透光基板及形成于所述透光基板表面的掩模圖案層，所述光刻曝光機(jī)還包括補(bǔ)償值處理單元、確認(rèn)單元、掃描儀和疊對測量單元；

所述補(bǔ)償值處理單元收集光刻曝光過程中在所述光掩模板中的熱量數(shù)據(jù)，并將所述熱量數(shù)據(jù)傳輸給所述確認(rèn)單元；

所述確認(rèn)單元對所述熱量數(shù)據(jù)進(jìn)行分析確認(rèn)是否為同一批處理的熱量數(shù)據(jù)；所述確認(rèn)單元分析確認(rèn)是同一批處理的熱量數(shù)據(jù)后；

所述掃描儀接收所述同一批處理的熱量數(shù)據(jù)，并開始對所述晶圓進(jìn)行掃描；

所述疊對測量單元用于測量所述晶圓上圖案偏移的數(shù)據(jù)，所述疊對測量單元會將測到所述圖案偏移的數(shù)據(jù)傳輸?shù)剿鲅a(bǔ)償值處理單元；

所述補(bǔ)償值處理單元會根據(jù)所述疊對測量單元測到的數(shù)據(jù)值計算需要修正的溫度補(bǔ)償值，其中針對每一批次的第一片所述晶圓設(shè)定批次溫差補(bǔ)償值，針對同一批次的第二片及第二片以后的所述晶圓計算出單片溫差補(bǔ)償值，所述溫度補(bǔ)償值包含所述批次溫差補(bǔ)償值和所述單片溫差補(bǔ)償值；并且在同一批次的所述晶圓中，所述批次溫差補(bǔ)償值為固定值，所述單片溫差補(bǔ)償值為遞增值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述確認(rèn)單元分析確認(rèn)不是同一批處理的熱量數(shù)據(jù)后，會將信息反饋給所述補(bǔ)償值處理單元，所述補(bǔ)償值處理單元通過數(shù)據(jù)計算，調(diào)整設(shè)定對應(yīng)的所述批次溫差補(bǔ)償值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述單片溫差補(bǔ)償值與同一批次的所述晶圓曝光的片數(shù)成正比關(guān)系。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述掩模圖案層設(shè)置在所述透光基板下方。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述透光基板包含石英玻璃板。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述掩模圖案層包含鉻層。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，同一批次的所述晶圓片數(shù)為25片。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的補(bǔ)償裝置，其特征在于，所述光刻曝光機(jī)還包含載具。