[實用新型]一種用于壓縮機的氣液分離器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821243006.1
• 申請日: 2018-08-03
• 公開（公告）號: CN208653003U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 喬興軍
• 申請（專利權(quán)）人: 蚌埠市昊源壓縮機制造有限公司
• 主分類號: F25B43/00
• 分類號: F25B43/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種用于壓縮機的氣液分離器，包括方形塊，方形塊上設(shè)有進氣接頭管和排氣接頭管，在方形塊上方一側(cè)設(shè)有圓形凹槽，所述進氣接頭管與圓形凹槽相連通，圓形凹槽的槽口處配合連接圓形密封板，在方形塊上方另一側(cè)設(shè)有方形凹槽，所述排氣接頭管與方形凹槽相連通，方形凹槽的槽口處配合連接方形密封板，圓形凹槽與方形凹槽之間通過連通孔相連通。本實用新型的優(yōu)點：本實用新型能夠?qū)嚎s氣體中的液體進行分離，分離效果好，在分離過程中還能夠?qū)嚎s氣體進行冷卻，增強了壓縮機下一級的壓縮效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及工業(yè)壓縮機領(lǐng)域，尤其涉及一種用于壓縮機的氣液分離器。

背景技術(shù)

壓縮機在每級壓縮后，需要將氣體中的液體分離后，再對其進行壓縮，在壓縮氣體時，如果氣體中混有液體，一方面會降低壓縮機的壓縮效率，另一方面還會縮短壓縮機的使用壽命。現(xiàn)有的壓縮機氣液分離通常采用氣液分離罐進行，這種氣液分離罐是將氣體從罐內(nèi)流過，氣體中含帶的液體在自身重力下掉落至氣液分離罐罐內(nèi)底部，這種氣液分離罐很難將氣體中含帶的液體完全分離。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點，而提出的一種用于壓縮機的氣液分離器。

為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用了如下技術(shù)方案：

一種用于壓縮機的氣液分離器，其特征在于：包括方形塊，方形塊上設(shè)有進氣接頭管和排氣接頭管，在方形塊上方一側(cè)設(shè)有圓形凹槽，所述進氣接頭管與圓形凹槽相連通，圓形凹槽的槽口處配合連接圓形密封板，在方形塊上方另一側(cè)設(shè)有方形凹槽，所述排氣接頭管與方形凹槽相連通，方形凹槽的槽口處配合連接方形密封板，圓形凹槽與方形凹槽之間通過連通孔相連通，在圓形凹槽內(nèi)側(cè)設(shè)有豎直設(shè)置的圓柱，在圓柱外側(cè)設(shè)有螺旋設(shè)置的螺旋板，在方形凹槽內(nèi)一側(cè)的內(nèi)壁上固定連接一組第一導流板，每個第一導流板均向下傾斜設(shè)置，每個第一導流板與水平面之間的角度為10°-15°，每個第一導流板與方形凹槽內(nèi)另一側(cè)的內(nèi)壁之間設(shè)有第一間隙，在方形凹槽內(nèi)另一側(cè)的內(nèi)壁上固定連接一組第二導流板，每個第二導流板均向下傾斜設(shè)置，每個第二導流板與水平面之間的角度為°10-15°，每個第二導流板與方形凹槽內(nèi)另一側(cè)的內(nèi)壁之間設(shè)有第二間隙，第二導流板與第一導流板對應間隔錯位設(shè)置，在方形塊下側(cè)設(shè)有第一排污接頭管和第二排污接頭管，第一排污接頭管與所述圓形凹槽相連通，第二排污接頭管與所述方形凹槽相連通，第一排污接頭管與第二排污接頭管分別通過排污支管連接排污主管，在排污主管上裝有排污閥。

優(yōu)選地，所述圓柱下端貫穿方形塊并伸出至方形塊外側(cè)，圓柱為空心結(jié)構(gòu)，在圓柱內(nèi)設(shè)有一個空腔，所述螺旋板為空心結(jié)構(gòu)，螺旋板一端通過第一連通管與所述圓柱的空腔相連通，且第一連通管伸入至圓柱的空腔內(nèi)，螺旋板的另一端通過第二連通管與所述圓柱的空腔相連通，且第二連通管伸入至圓柱的空腔內(nèi)，在圓柱下端設(shè)有進液接頭管和出液接頭管，進液接頭管與出液接頭管均與圓柱的空腔相連通，進液接頭管通過進液連接管與伸入至圓柱空腔內(nèi)的第二連通管相連接，出液接頭管通過出液連接管與伸入至圓柱空腔內(nèi)的第一連通管相連接。

優(yōu)選地，所述螺旋板外側(cè)均勻設(shè)有半球形凸塊。

優(yōu)選地，每個所述第一間隙上方均設(shè)有第一導流塊，第一導流塊固定連接在方形凹槽的內(nèi)壁上，在第一導流塊下側(cè)設(shè)有第一引流圓弧槽。

優(yōu)選地，每個第一引流圓弧槽內(nèi)表面均勻設(shè)有第一錐形凹槽。

優(yōu)選地，每個所述第二間隙上方均設(shè)有第二導流塊，第二導流塊固定連接在方形凹槽的內(nèi)壁上，在第二導流塊下側(cè)設(shè)有第二引流圓弧槽。

優(yōu)選地，每個第二引流圓弧槽內(nèi)表面均勻設(shè)有第二錐形凹槽。

優(yōu)選地，在第一導流板的表面均勻設(shè)有第一錐形凸塊。

優(yōu)選地，在第二導流板的表面均勻設(shè)有第二錐形凸塊。