[實(shí)用新型]一種短距離通信高速光電二極管芯片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821242550.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-08-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208596680U | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉宏亮;楊彥偉;劉格;陸一鋒 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市芯思杰智慧傳感技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/0224 | 分類號(hào): | H01L31/0224;H01L31/0304;H01L31/0392;H01L31/18 |
| 代理公司: | 深圳智匯遠(yuǎn)見知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44481 | 代理人: | 田俊峰 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 高速光電二極管 光電二極管芯片 本實(shí)用新型 短距離通信 非摻雜 襯底 芯片 襯底晶格 外延功能 與非 匹配 摻雜 | ||
1.一種短距離通信高速光電二極管芯片,其特征在于,所述光電二極管芯片包括:
芯片襯底,所述芯片襯底為非摻雜GaAs襯底;
設(shè)置在所述芯片襯底一側(cè)表面的外延功能層;所述外延功能層具有位于所述芯片襯底表面的負(fù)極凸臺(tái)以及位于所述負(fù)極凸臺(tái)背離所述芯片襯底一側(cè)表面的正極凸臺(tái);所述負(fù)極凸臺(tái)背離所述芯片襯底一側(cè)的表面具有第一區(qū)域以及包圍所述第一區(qū)域的第二區(qū)域,所述正極凸臺(tái)位于所述第一區(qū)域;
位于所述正極凸臺(tái)背離所述負(fù)極凸臺(tái)一側(cè)表面的第一電極環(huán);
位于所述第二區(qū)域的第二電極環(huán);
其中,所述正極凸臺(tái)背離所述負(fù)極凸臺(tái)的一側(cè)表面為圓形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述外延功能層包括與所述非摻雜GaAs襯底晶格匹配的多層子功能層;
所述多層子功能層在垂直于所述芯片襯底的方向上層疊設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述多層子功能層包括:在所述芯片襯底的同一側(cè)依次外延生長(zhǎng)的緩沖層、吸收層、本征層以及頂層;所述頂層表面設(shè)置有接觸層;
所述緩沖層用于形成所述負(fù)極凸臺(tái),所述吸收層、所述本征層以及所述頂層用于形成所述正極凸臺(tái);
所述接觸層包括位于所述第一電極環(huán)與所述頂層之間的接觸單元,用于減少接觸電阻。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述緩沖層為n型GaAs層;所述吸收層為n型AlGaAs層;所述本征層為本征GaAs層;所述頂層為p型AlGaAs層;所述接觸層為p型GaAs層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述外延功能層中,所述吸收層的摻雜濃度最大。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述外延功能層中,至少包括如下方式之一:
所述緩沖層的厚度大于2μm,且小于5μm,摻雜濃度大于1×1018cm-3;
或,所述吸收層的摻雜濃度大于1×1017cm-3,厚度大于0.1μm,且小于3μm;
或,所述本征層的厚度范圍是2.5μm-5μm,包括端點(diǎn)值;
或,所述頂層的摻雜濃度大于1×1018cm-3,厚度范圍是0.5μm-2μm,包括端點(diǎn)值;
或,所述接觸層的摻雜濃度大于1×1018cm-3。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述正極凸臺(tái)背離所述負(fù)極凸臺(tái)的一側(cè)表面為圓形,該圓形的直徑范圍是40μm-70μm,包括端點(diǎn)值。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述正極凸臺(tái)背離所述負(fù)極凸臺(tái)的一側(cè)表面包括:通光窗口以及包圍所述通光窗口的外圍區(qū)域;
所述第一電極環(huán)位于所述外圍區(qū)域,包圍所述通光窗口;
所述第二電極環(huán)位于所述第二區(qū)域,包圍所述正極凸臺(tái)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述芯片襯底設(shè)置所述外延功能層的一側(cè)表面包括:第三區(qū)域以及包圍所述第三區(qū)域的第四區(qū)域;
所述外延功能層位于所述第三區(qū)域;
所述光電二極管芯片還包括:覆蓋所述第四區(qū)域、所述負(fù)極凸臺(tái)以及所述正極凸臺(tái)的鈍化層,所述鈍化層對(duì)應(yīng)所述通光窗口、所述第一電極環(huán)以及所述第二電極的位置具有開口。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光電二極管芯片,其特征在于,所述芯片襯底背離所述外延功能層的一側(cè)表面還設(shè)置有焊接層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市芯思杰智慧傳感技術(shù)有限公司,未經(jīng)深圳市芯思杰智慧傳感技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821242550.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 具有短距離無(wú)線電功能的移動(dòng)站及其功率消耗降低方法
- 短距離無(wú)線網(wǎng)絡(luò)計(jì)量表
- 一種具有短距離通信天線的移動(dòng)終端
- 利用短距離通信的網(wǎng)絡(luò)共享提供系統(tǒng)和方法
- 終端設(shè)備和利用短距離通信的網(wǎng)絡(luò)共享提供方法
- 短距離通信設(shè)備分享請(qǐng)求和控制方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 設(shè)備分享請(qǐng)求和控制方法及電子設(shè)備、存儲(chǔ)介質(zhì)
- 門禁管理方法、裝置及計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)
- 通信設(shè)備、通信方法和計(jì)算機(jī)可讀記錄介質(zhì)
- 簽到驗(yàn)證方法、簽到驗(yàn)證裝置及電子設(shè)備





