[實用新型]一種真空鍍膜結構

有效

• 申請號: 201821238830.8
• 申請日: 2018-08-02
• 公開（公告）號: CN209008094U
• 公開（公告）日: 2019-06-21
• 發明（設計）人: 黃偉雄;伍文寧;黃偉倫
• 申請（專利權）人: 東莞星暉真空鍍膜塑膠制品有限公司
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B7/12;B32B33/00
• 代理公司: 廣東莞信律師事務所 44332
• 代理人: 曾秋梅

本實用新型公開了一種真空鍍膜結構，包括基層，所述基層的上端粘接有預涂層，所述預涂層的上端粘接有吸光層，所述吸光層的上端粘接有兩層鍍膜層，所述鍍膜層的上端粘接有抗氧層，所述抗氧層的上端粘接有隔熱層，所述隔熱層的上端粘接有鏤空層，所述鏤空層的上端粘接有保護層，兩層所述鍍膜層之間通過粘合層連接，所述基層、預涂層、吸光層、鍍膜層、抗氧層、隔熱層、鏤空層和保護層相互之間設有粘合層，所述鍍膜層包括單色膜，所述單色膜的上端設有面漆層。本實用新型可以使透過光變為無色，降低了觀察面光線的反射率，減小了對觀察的干擾；可使真空鍍膜結構延長使用壽命；可以在鏤空層上雕刻花紋或圖案，使真空鍍膜結構更加美觀。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其涉及一種真空鍍膜結構。

背景技術

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積(PVD)技術和化學氣相沉積(CVD)技術。

經檢索，中國專利授權號CN 203613253 U公開了一種多色真空鍍膜，包括素材層、印刷于素材層表面的底漆層以及依次設置于底漆層上方的至少兩層鍍膜層，每一層鍍膜層均包括單色膜層及覆蓋在所述單色膜層表面的面漆層，所述各鍍膜層重疊構成文字、LOGO、花紋等圖案。

現有的真空鍍膜存在以下不足之處：容易反光；使用壽命短；只采用印刷的圖案，形式比較單調。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種真空鍍膜結構。

為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種真空鍍膜結構，包括基層，所述基層的上端粘接有預涂層，所述預涂層的上端粘接有吸光層，所述吸光層的上端粘接有兩層鍍膜層，所述鍍膜層的上端粘接有抗氧層，所述抗氧層的上端粘接有隔熱層，所述隔熱層的上端粘接有鏤空層，所述鏤空層的上端粘接有保護層。

優選地，兩層所述鍍膜層之間通過粘合層連接，所述基層、預涂層、吸光層、鍍膜層、抗氧層、隔熱層、鏤空層和保護層相互之間設有粘合層。

優選地，所述鍍膜層包括單色膜，所述單色膜的上端設有面漆層，所述面漆層的上端設有反光層。

優選地，所述吸光層為苯并三唑苯酚氧類稀土配合物。

優選地，所述反光層為Cr層。

優選地，所述隔熱層為硅酸鋁制成。

優選地，所述粘合層為聚丙烯酸酯制成。

本實用新型與現有技術相比，其有益效果為：

1、通過設置兩層反光層和一層吸光層，可以使透過光變為無色，降低了觀察面光線的反射率，減小了對觀察的干擾；

2、通過設置抗氧層，可減小空氣對真空鍍膜結構的影響，延長使用壽命；通過設置隔熱層，避免溫度過高，使印刷的圖案模糊，通過設置保護層，可以提高防劃耐磨性能，延長使用壽命；

3、通過設置鏤空層，可以在鏤空層上雕刻花紋或圖案，使真空鍍膜結構更加美觀。

附圖說明