[實用新型]反應腔室以及等離子體設備

有效

• 申請號: 201821231497.8
• 申請日: 2018-08-01
• 公開（公告）號: CN208478281U
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 王偉
• 申請（專利權）人: 北京北方華創微電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京金智普華知識產權代理有限公司 11401
• 代理人: 巴曉艷

1.一種反應腔室，其特征在于，包括：

腔室本體、內襯、用于支撐晶圓的支撐組件和升降驅動裝置；所述內襯和所述支撐組件設置在所述腔室本體內；所述內襯包括：第一內襯和第二內襯；所述第一內襯與所述腔室本體固定連接，所述第二內襯同軸外套或內套于所述第一內襯上，在所述第一內襯與所述第二內襯之間具有間隙，所述升降驅動裝置用于驅動所述第二內襯上升或下降；其中，在對晶圓進行工藝處理時，所述升降驅動裝置驅動所述第二內襯下降并位于預設的第一位置，所述第一內襯和所述第二內襯的重疊部分的長度為預定長度，所述晶圓位于由所述第一內襯和所述第二內襯圍成的工藝區域內。

2.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，

所述升降驅動裝置包括：可伸縮的升降波紋管；所述升降波紋管與所述第二內襯連接，通過所述升降波紋管的伸縮驅動所述第二內襯升降。

3.如權利要求2所述的反應腔室，其特征在于，

所述升降驅動裝置包括：氣缸組件；其中，通過所述氣缸組件驅動所述升降波紋管伸縮。

4.如權利要求3所述的反應腔室，其特征在于，

所述氣缸組件包括：氣缸、連接件和活動軸；所述氣缸與所述升降波紋管的上端與所述腔室本體連接；所述升降波紋管的底端與設置在所述升降波紋管中的所述活動軸連接，所述氣缸的氣缸軸通過所述連接件與所述活動軸連接，所述第二內襯通過內襯安裝件與所述升降波紋管連接。

5.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，

在所述第二內襯的底部設置有多個排氣孔；其中，在所述工藝區域內產生的刻蝕副產物通過所述排氣孔排出。

6.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，

所述腔室本體設置有傳片口；其中，在進料或取料時，所述升降驅動裝置驅動所述第二內襯上升并位于預設的第二位置，使所述第二內襯位于所述傳片口的上方。

7.如權利要求1所述的反應腔室，其特征在于，

所述間隙d=1mm-2mm；所述預定長度與所述間隙的比值大于7:1。

8.一種等離子體設備，包括反應腔室，其特征在于，所述反應腔室采用如權利要求1至7任一項所述的反應腔室。