[實用新型]一種高雙折射保偏光纖的模式雙折射的測量裝置

有效

• 申請號: 201821225664.8
• 申請日: 2018-08-01
• 公開（公告）號: CN211262664U
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: 孟卓;朱佑強;趙保來
• 申請（專利權）人: 天津博科光電科技有限公司
• 主分類號: G01M11/02
• 分類號: G01M11/02
• 代理公司: 天津協眾信創知識產權代理事務所(普通合伙) 12230
• 代理人: 李京京

本實用新型公開了一種高雙折射保偏光纖的模式雙折射的測量裝置。裝置中電光調制器將第一微波信號調制到光線上形成光載微波信號，光載微波信號經待測高雙折射保偏光纖后形成兩路光程差不同的光載微波信號，兩路光程差不同的光載微波信號經光電探測器后輸入至混頻器的射頻輸入端，混頻器將兩路光程差不同的光載微波信號與第二微波信號混頻后的中頻信號經低通濾波器后的直流信號輸入至數據采集電路，數據采集電路將直流信號不同幅值處的頻率輸入至計算機進行計算。本實用新型實現了高雙折射保偏光纖的模式雙折射精確測量的目的。

技術領域

本實用新型涉及光纖測量技術領域，特別是涉及一種高雙折射保偏光纖的模式雙折射的測量裝置。

背景技術

高雙折射保偏光纖在光纖陀螺、光纖電流互感器和保偏光器件等領域有廣泛的應用。在這些應用中，保偏光纖的保偏性能是決定其應用的關鍵，一般用模式雙折射或拍長來衡量保偏光纖的保偏性能，其中，高雙折射保偏光纖的模式雙折射等于保偏光纖兩偏振本征軸折射率差的大小。

已有技術中高雙折射保偏光纖模式雙折射的測量主要有扭轉法、瑞利散射法、壓力法、棱鏡耦合法、電光或磁光調制法、偏振模色散法、光偏振法、波長掃描法、剪斷法、光頻域反射計等方法。上述方法都是基于光學原理來測量高雙折射保偏光纖模式雙折射，不同的光學原理測量方法都會出現精度的偏差而且會受到測量工具及環境的影響。因此，本領域技術人員亟需提供一種測量裝置以改變基于光學原理的測量裝置進而提高測量精度的目的。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種高雙折射保偏光纖的模式雙折射的測量裝置，以實現高雙折射保偏光纖的模式雙折射精確測量的目的。

為實現上述目的，本實用新型提供了一種高雙折射保偏光纖的模式雙折射的測量裝置。所述測量裝置包括寬譜光源、在光的傳播方向上依次設置的起偏器、電光調制器、待測高雙折射保偏光纖、檢偏器、光電探測器、混頻器、數據采集電路和計算機；以及掃頻信號源、與所述掃頻信號源連接的微波功分器，與所述微波功分器的第二輸出端連接的微波移相器，所述微波移相器的輸出端連接所述混頻器的本振輸入端，將所述第二微波信號輸入所述混頻器；

所述微波功分器的第一輸出端與所述電光調制器的射頻輸入端連接，所述電光調制器將所述微波功分器輸出的第一微波信號調制到光線上形成光載微波信號，所述光載微波信號經所述待測高雙折射保偏光纖后形成兩路光程差不同的光載微波信號，所述兩路光程差不同的光載微波信號經所述光電探測器后輸入至所述混頻器的射頻輸入端，所述混頻器將所述兩路光程差不同的光載微波信號與所述第二微波信號混頻后的中頻信號經低通濾波器后的直流信號輸入至所述數據采集電路，所述數據采集電路將所述直流信號不同幅值處的頻率輸入至所述計算機。

可選的，所述電光調制器的輸出端為保偏光纖且與所述待測高雙折射保偏光纖采用45°熔接方式連接。

可選的，所述待測高雙折射保偏光纖的兩個偏振本振軸與所述檢偏器成45°夾角。

可選的，所述光電探測器與所述混頻器之間還設置有低噪放大器。

可選的，所述測量裝置還包括電光調制器控制電路，所述電光調制器控制電路與所述電光調制器連接。

根據本實用新型提供的具體實施例，本實用新型公開了以下技術效果：本實用新型公開的高雙折射保偏光纖的模式雙折射的測量裝置是將待測高雙折射保偏光纖放置在測量裝置內，使其能夠產生兩路光程差不同的光載微波信號。根據數據采集電路測量得到的直流信號的兩個相鄰的波谷的頻率值和待測保偏光纖的長度就可以得到待測保偏光纖的模式雙折射。測量結果與混頻器兩輸入信號的幅值無關，解決了混頻器混頻測量時輸入信號波動對測量結果影響較大的這一難題。

另外，本實用新型對長距離保偏光纖的模式雙折射的測量更準確，解決了目前傳統光學測量方法只能測量短保偏光纖模式雙折射的問題。

附圖說明