[實(shí)用新型]蒸鍍坩堝蓋及蒸鍍坩堝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821211419.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208562504U | 公開(公告)日: | 2019-03-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱金華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東聚華印刷顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 曾銀鳳 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蒸鍍 清理件 伸入部 坩堝蓋 蓋體 孔壁 坩堝 本實(shí)用新型 成膜均勻性 蒸鍍材料 周向運(yùn)動(dòng) 附著 刮除 伸入 保證 | ||
本實(shí)用新型涉及一種蒸鍍坩堝蓋及蒸鍍坩堝,該蒸鍍坩堝蓋包括蓋體和第一清理件;所述蓋體上設(shè)有蒸鍍孔,所述蓋體與所述第一清理件連接,所述第一清理件具有第一伸入部,所述第一伸入部伸入所述蒸鍍孔中且貼近所述蒸鍍孔的孔壁,所述第一清理件能夠相對(duì)于所述蒸鍍孔運(yùn)動(dòng)以使所述第一伸入部沿所述蒸鍍孔的孔壁周向運(yùn)動(dòng),從而第一伸入部能夠刮除附著在蒸鍍孔的孔壁上的蒸鍍材料,有利于提高蒸鍍的速率穩(wěn)定性和成膜均勻性,并保證蒸鍍工藝的正常進(jìn)行。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及蒸鍍工藝技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種蒸鍍坩堝蓋及蒸鍍坩堝。
背景技術(shù)
真空熱蒸鍍是在壓強(qiáng)低于5*10-5Pa的真空環(huán)境下,通過加熱的方式將材料由固態(tài)變?yōu)檎魵鉅顟B(tài)并高速上升運(yùn)動(dòng)到達(dá)基板,使之在基板上沉積固化為固體薄膜的過程,可應(yīng)用于OLED有機(jī)薄膜制備等領(lǐng)域。
請(qǐng)參閱圖1,傳統(tǒng)的蒸鍍坩堝包括坩堝本體20和坩堝蓋部30,坩堝蓋部30上設(shè)有蒸鍍孔31,坩堝本體20用于容納蒸鍍材料40。通過加熱,蒸鍍材料40形成蒸氣從蒸鍍孔31中逸出,上升到基板50上。然而,在蒸鍍過程中,蒸鍍孔31很容易附著蒸鍍材料40。請(qǐng)參閱圖2,當(dāng)蒸鍍孔31附著有較多蒸鍍材料40時(shí),基板50邊緣區(qū)域沉積固化的材料較基板50中心區(qū)域少,導(dǎo)致成膜均勻性變差。同時(shí),由于蒸鍍孔31的孔徑變小,材料蒸出變得困難,導(dǎo)致蒸鍍速率下降且穩(wěn)定性變差。而且,如果不及時(shí)進(jìn)行清理,可使蒸鍍孔31堵塞,材料無法蒸出,蒸鍍工藝無法繼續(xù)進(jìn)行。
實(shí)用新型內(nèi)容
基于此,有必要提供一種能夠清理附著在蒸鍍孔中的蒸鍍材料的蒸鍍坩堝蓋及蒸鍍坩堝。
一種蒸鍍坩堝蓋,包括蓋體和第一清理件;所述蓋體上設(shè)有蒸鍍孔,所述第一清理件設(shè)置在所述蓋體上,所述第一清理件具有第一伸入部,所述第一伸入部伸入所述蒸鍍孔中且貼近所述蒸鍍孔的孔壁,所述第一清理件能夠相對(duì)于所述蒸鍍孔運(yùn)動(dòng)以使所述第一伸入部沿所述蒸鍍孔的孔壁周向運(yùn)動(dòng)。
一種蒸鍍坩堝,包括坩堝主體以及所述蒸鍍坩堝蓋。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有以下有益效果:
上述蒸鍍坩堝蓋及蒸鍍坩堝,在蓋體上設(shè)有第一清理件,第一清理件能夠運(yùn)動(dòng)以使其第一伸入部沿蒸鍍孔的孔壁周向運(yùn)動(dòng),從而能夠清理附著在蒸鍍孔的孔壁上的蒸鍍材料,有利于提高蒸鍍的速率穩(wěn)定性和成膜均勻性,并保證蒸鍍工藝的正常進(jìn)行。
附圖說明
圖1為傳統(tǒng)的蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為圖1所示的蒸鍍坩堝的蒸鍍孔附著蒸鍍材料的示意圖;
圖3為一實(shí)施例的蒸鍍坩堝的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為圖3所示的蒸鍍坩堝在A-A方向上的剖視圖;
圖5為圖3所示的蒸鍍坩堝中的主蓋體的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖6為圖3所示的蒸鍍坩堝中的轉(zhuǎn)動(dòng)體的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為了便于理解本實(shí)用新型,下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的描述。附圖中給出了本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例。但是,本實(shí)用新型可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn),并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地,提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì)本實(shí)用新型的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。
需要說明的是,當(dāng)元件被稱為“固定于”另一個(gè)元件,它可以直接在另一個(gè)元件上或者也可以存在居中的元件。當(dāng)一個(gè)元件被認(rèn)為是“連接”另一個(gè)元件,它可以是直接連接到另一個(gè)元件或者可能同時(shí)存在居中元件。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





