[實用新型]蒸鍍裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821181722.1
• 申請日: 2018-07-24
• 公開（公告）號: CN208803133U
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發(fā)明（設計）人: 辛科
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京三高永信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 邢惠童

本實用新型提供了一種蒸鍍裝置，屬于太陽能電池技術領域。所述蒸鍍裝置包括蒸鍍腔、設置于蒸鍍腔內(nèi)的多組蒸發(fā)源以及多個分配管，多個分配管與多組蒸發(fā)源一一對應，每個分配管的長度方向與蒸鍍腔的寬度方向平行，且多個分配管的排布方向與蒸鍍腔的長度方向平行；其中：每個分配管包括：一組進氣口和與一組進氣口連通的一組出氣口，一組進氣口沿分配管的長度方向排布，一組進氣口中的多個進氣口與分配管對應的一組蒸發(fā)源中的多個蒸發(fā)源一一對應連通。本實用新型解決了蒸鍍裝置蒸鍍的膜層的均勻性較差的問題。

技術領域

本實用新型涉及太陽能電池技術領域，特別涉及一種蒸鍍裝置。

背景技術

隨著科技的發(fā)展，銅銦鎵硒(簡稱：CIGS)太陽能電池板的應用越來越廣泛，CIGS太陽能電池板包括CIGS膜層，且通常使用蒸鍍裝置來制備CIGS膜層。

蒸鍍裝置包括蒸鍍腔、分配管、金屬源蒸發(fā)源以及硒源蒸發(fā)源。在制備GIGS膜層的過程中，需要將金屬源放入金屬源蒸發(fā)源、硒源放入硒源蒸發(fā)源，并將基板以及該金屬源蒸發(fā)源和硒源蒸發(fā)源放入蒸鍍腔內(nèi)，使得金屬源蒸發(fā)源以及硒源蒸發(fā)源均正對基板，分配管與硒源蒸發(fā)源連通。之后加熱金屬源蒸發(fā)源，以使得金屬源熔化后向基板輻射金屬粒子，并加熱硒源蒸發(fā)源，以使得硒源蒸發(fā)出硒蒸汽，該硒蒸汽會進入分配管，并經(jīng)分配管分配后到達基板，以使得基板上的金屬粒子以及硒蒸汽反應形成GIGS膜層。

但是，在制備CIGS膜層的過程中，分配管對硒蒸汽的分配均勻性較差，使得到達基板的硒蒸汽的分布均勻性較差，導致在基板上形成的CIGS膜層的厚度的均勻性較差。

實用新型內(nèi)容

本申請?zhí)峁┝艘环N蒸鍍裝置，可以解決相關技術中分配組件的分配均勻性較差的問題，所述技術方案如下：

提供了一種蒸鍍裝置，所述蒸鍍裝置包括蒸鍍腔、設置于所述蒸鍍腔內(nèi)的多組蒸發(fā)源以及多個分配管，多個所述分配管與多組所述蒸發(fā)源一一對應，每個所述分配管的長度方向與所述蒸鍍腔的寬度方向平行，且多個所述分配管的排布方向與所述蒸鍍腔的長度方向平行；其中：每個所述分配管包括：一組進氣口和與所述一組進氣口連通的一組出氣口，所述一組進氣口沿分配管的長度方向排布，所述一組進氣口中的多個進氣口與所述分配管對應的一組蒸發(fā)源中的多個蒸發(fā)源一一對應連通。

可選的，每個所述分配管還包括：對面設置的進氣面和出氣面，每個所述分配管包含的所述一組進氣口設置于所述分配管的進氣面，每個所述分配管包含的所述一組出氣口設置于所述分配管的出氣面。

可選的，每個所述分配管包含的所述一組出氣口包括：位于所述一組進氣口中相鄰兩個進氣口之間的第一出氣口，以及多個第二出氣口，多個所述第二出氣口在所述進氣面上的投影對稱分布于多個所述進氣口排布方向上的兩端。

可選的，多個所述進氣口排布方向上的每端設有至少兩個所述第二出氣口，在多個所述進氣口的排布方向上，所述第一出氣口的中心和與其相鄰的出氣口的中心之間的距離為第一距離，在多個所述進氣口排布方向上的每端，相鄰的兩個第二出氣口的中心之間的距離為第二距離，所述第一距離大于所述第二距離。

可選的，所述第一距離與所述第二距離的比值的范圍為1～1.5。

可選的，所述分配管的端面為圓形或正多邊形。

可選的，每組所述出氣口設置為兩排，兩排所述出氣口相對參考截面對稱設置，所述參考截面與所述出氣面和所述分配管的端面均垂直。

可選的，兩排所述出氣口中的每一出氣口的中心點和所述分配管的軸線之間的最短連線與所述參考截面之間所成的銳角的角度大于或等于30度且小于或等于60度。

可選的，所述兩排出氣口中的每一出氣口的中心點和所述分配管的軸線之間的最短連線與所述參考截面之間所成的銳角的角度為45度。

可選的，所述進氣口通過套接組件與所述進氣口對應的蒸發(fā)源連通。