[實用新型]鈦離子電鍍膜飾品有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821176521.2 | 申請日: | 2018-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN209194045U | 公開(公告)日: | 2019-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 葉國輝;何建耀;盧偉賢;易敏龍 | 申請(專利權(quán))人: | 周生生珠寶金行有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/06;A44C25/00;A44C9/00;A44C11/00;A44C7/00;A44C5/00 |
| 代理公司: | 北京華科聯(lián)合專利事務(wù)所(普通合伙) 11130 | 代理人: | 王為;孟旭 |
| 地址: | 中國香港九龍彌敦道229號G/F-*** | 國省代碼: | 中國香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 凹凸位 電鍍膜 飾品 本實用新型 基材表面 縱橫比 鈦離子 基材 附著 離子 | ||
1.一種飾品,包括:
a.一個基材(1),所述基材表面包括至少一個凹凸位(2);及
b.一個均勻地附著所述凹凸位的涂層(3);
其特征是:所述涂層(3)是包括鈦成分的離子電鍍膜,所述凹凸位的縱橫比是2至6。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:所述包括鈦成分的離子電鍍膜是碳化鈦離子電鍍膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:所述包括鈦成分的離子電鍍膜選自氧化鈦離子電鍍膜、碳氧化鈦離子電鍍膜、氮化鈦離子電鍍膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的飾品,其特征是:所述碳化鈦離子電鍍膜的特性是硬度為≥4H、厚度為0.5~1.5μm、顏色的L數(shù)值為≤37。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的飾品,其特征是:所述顏色的L數(shù)值為36-37、a數(shù)值為0±2、b數(shù)值為0±2。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:所述基材是足金或K金。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:所述基材是不規(guī)則形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:所述至少一個凹凸位外的表面已經(jīng)噴砂、拋光、拉絲或打磨。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:選自擺設(shè)、企禮和衣服配飾。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的飾品,其特征是:選自戒指、手鏈、串珠、耳環(huán)、項鏈、吊飾、手鐲、頭飾、腳鏈。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





