[實用新型]一種鎢化硅裝置上半端罩部件洗凈溶射專用保護治具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821176272.7 | 申請日: | 2018-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN208517508U | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳智慧;朱光宇;張正偉;李泓波;賀賢漢 | 申請(專利權(quán))人: | 富樂德科技發(fā)展(大連)有限公司 |
| 主分類號: | C23C4/02 | 分類號: | C23C4/02 |
| 代理公司: | 大連智高專利事務(wù)所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人: | 蓋小靜 |
| 地址: | 116600 遼寧省大連市保稅區(qū)*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 治具 洗凈 傾斜支撐面 水平支撐面 側(cè)壁 耐高溫膠帶 環(huán)狀結(jié)構(gòu) 專用保護 鎢化硅 上端 端罩 空腔 耐熱性 本實用新型 不銹鋼材質(zhì) 表面光亮 側(cè)壁頂部 遮蔽保護 治具表面 重復(fù)利用 副產(chǎn)物 再使用 污垢 殘膠 下端 遮蔽 粘貼 清洗 | ||
一種鎢化硅裝置上半端罩部件洗凈溶射專用保護治具,屬于洗凈溶射遮蔽治具領(lǐng)域。包括側(cè)壁、水平支撐面、傾斜支撐面和空腔;所述側(cè)壁為上端直徑大于下端直徑的環(huán)狀結(jié)構(gòu),所述環(huán)狀結(jié)構(gòu)內(nèi)部為空腔;水平支撐面位于側(cè)壁頂部,傾斜支撐面位于側(cè)壁內(nèi)部上端,所述水平支撐面與傾斜支撐面連接。本實用新型的治具選用不銹鋼材質(zhì),能夠達到比耐高溫膠帶更高的耐熱性同時治具表面不會留下殘膠、污垢等副產(chǎn)物;治具能夠提供相對于手工粘貼耐高溫膠帶保護更高的洗凈溶射范圍精度;洗凈溶射遮蔽保護治具可以重復(fù)利用,只需經(jīng)過適當(dāng)?shù)那逑淳涂梢允贡砻婀饬寥缧拢_到再使用的要求。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及洗凈溶射遮蔽治具領(lǐng)域,尤其涉及一種半導(dǎo)體設(shè)備鎢化硅裝置上半端罩部件洗凈溶射專用保護治具。
背景技術(shù)
目前在對鎢化硅裝置部件進行洗凈再生過程中,需要對部件的非洗凈溶射區(qū)域進行遮蔽保護,通常是采用手工粘貼耐高溫膠帶進行遮蔽保護,用耐高溫膠帶保護時,依據(jù)工藝要求需要將膠帶根據(jù)部件所需要遮蔽的范圍進行粘貼和剪切,此做法存在以下三點缺陷:
1、洗凈溶射后的膠帶無法重復(fù)利用,增加生產(chǎn)成本;
2、用手工粘貼耐高溫膠帶剪切保護,受人工作業(yè)限制,遮蔽部位范圍精度不足,尤其保護邊緣位置參次不齊,會造成洗凈溶射效果不良;
3、耐高溫膠帶在使用后會有少量殘膠留在表面。
實用新型內(nèi)容
為解決現(xiàn)有用于洗凈溶射的膠帶導(dǎo)致精度不足還會有殘留的問題,本實用新型提供了一種鎢化硅裝置上半端罩部件洗凈溶射專用保護治具。
為實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案是:一種鎢化硅裝置上半端罩部件洗凈溶射專用保護治具,包括側(cè)壁、水平支撐面、傾斜支撐面和空腔;所述側(cè)壁為上端直徑大于下端直徑的環(huán)狀結(jié)構(gòu),所述環(huán)狀結(jié)構(gòu)內(nèi)部為空腔;水平支撐面位于側(cè)壁頂部,傾斜支撐面位于側(cè)壁內(nèi)部上端,所述水平支撐面與傾斜支撐面連接。
進一步的,所述側(cè)壁外端設(shè)置一圈凸臺。
進一步的,所述凸臺上設(shè)置多個定位孔。
進一步的,所述凸臺下端面設(shè)置凹槽。
進一步的,所述側(cè)壁內(nèi)部包括傾斜支撐面和內(nèi)表面,側(cè)壁的內(nèi)表面與垂直面形成的傾斜角度小于傾斜支撐面與垂直面形成的傾斜角度。
進一步的,所述側(cè)壁采用不銹鋼材質(zhì)。
本實用新型的有益效果是:治具選用不銹鋼材質(zhì),能夠達到比耐高溫膠帶更高的耐熱性同時治具表面不會留下殘膠、污垢等副產(chǎn)物;治具能夠提供相對于手工粘貼耐高溫膠帶保護更高的洗凈溶射范圍精度;洗凈溶射遮蔽保護治具可以重復(fù)利用,只需經(jīng)過適當(dāng)?shù)那逑淳涂梢允贡砻婀饬寥缧拢_到再使用的要求。
附圖說明
圖1為本實用新型的剖視圖;
圖2為本實用新型的部分結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1.上半端罩部件,2.空腔,3.側(cè)壁,4.水平支撐面,5.傾斜支撐面,6.凸臺,7.定位孔,8.凹槽。
具體實施方式
一種鎢化硅裝置上半端罩部件洗凈溶射專用保護治具,該治具是為英特爾使用的半導(dǎo)體設(shè)備鎢化硅裝置上半端罩部件進行洗凈溶射的專用保護治具,包括側(cè)壁3、水平支撐面4、傾斜支撐面5和空腔2;所述側(cè)壁3為上端直徑大于下端直徑的環(huán)狀結(jié)構(gòu),所述環(huán)狀結(jié)構(gòu)內(nèi)部為空腔2;水平支撐面4位于側(cè)壁3頂部,傾斜支撐面5位于側(cè)壁3內(nèi)部上端,所述水平支撐面4與傾斜支撐面5連接;上半端罩部件1放在治具上,由水平支撐面4和傾斜支撐面5支撐上半端罩部件1,上半端罩部件1的外側(cè)表面與水平支撐面4和傾斜支撐面5貼合。
所述側(cè)壁3外端設(shè)置一圈凸臺6。
所述凸臺6上設(shè)置多個定位孔7。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富樂德科技發(fā)展(大連)有限公司,未經(jīng)富樂德科技發(fā)展(大連)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821176272.7/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆





