[實(shí)用新型]磁控濺射裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821176207.4
• 申請(qǐng)日: 2018-07-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208748188U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周冬
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 華豐源（成都）新能源科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 北京志霖恒遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11435
• 代理人: 郭棟梁

1.一種磁控濺射裝置，包括腔室和設(shè)置在腔室內(nèi)的靶座和旋轉(zhuǎn)靶材，所述旋轉(zhuǎn)靶材用于設(shè)在基板的上方，其特征在于，所述旋轉(zhuǎn)靶材的一側(cè)固定有聚集罩，所述聚集罩用于將擴(kuò)散到其上的濺射材料反彈至所述基板的表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述聚集罩包括第一聚集板和第二聚集板；

所述第一聚集板設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)靶材的一側(cè)，所述第二聚集板設(shè)置在所述旋轉(zhuǎn)靶材的另一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述第一聚集板和第二聚集板相對(duì)于所述基板傾斜設(shè)置，形成上端距離小下端距離大的喇叭口形狀。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述第一聚集板和第二聚集板的上端通過(guò)連接板連接；

所述旋轉(zhuǎn)靶材的兩側(cè)通過(guò)轉(zhuǎn)軸固定在靶座上，所述靶座的上部固定在所述腔室的上部；

所述連接板固定連接所述靶座的下部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述連接板與所述靶座的下部通過(guò)螺釘連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述連接板為弧形板或平直板。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述第一聚集板、連接板和第二聚集板為一體結(jié)構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述第一聚集板、連接板和第二聚集板包圍所述旋轉(zhuǎn)靶材260度-280度的圓周。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述聚集罩朝向所述旋轉(zhuǎn)靶材的表面具有一定粗糙度。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的磁控濺射裝置，其特征在于，所述粗糙度的Ra值不小于50um。