[實用新型]一種紋理保護膜及終端

有效

• 申請號: 201821165412.0
• 申請日: 2018-07-20
• 公開（公告）號: CN209336221U
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 王慧娥;李孟;李東亮
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: B32B27/36
• 分類號: B32B27/36;B32B7/12;B32B27/06;B32B3/12;B32B33/00
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種紋理保護膜，其特征在于，包括：保護膜本體，所述保護膜本體的第一表面設有第一紋理層，所述保護膜本體的第二表面設有第二紋理層，所述第一表面與所述第二表面相對，所述第一紋理層與所述第二紋理層疊加形成干涉紋理圖案。

2.根據權利要求1所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層的圖案與所述第二紋理層的圖案相同，第二紋理層的圖案相對于第一紋理層的圖案偏轉一定角度，所述第一紋理層與所述第二紋理層疊加干涉形成摩爾紋圖案。

3.根據權利要求2所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層包括多條相互平行且間隔排列的第一直線條紋，所述第二紋理層包括多條相互平行且間隔排列的第二直線條紋，所述第一直線條紋在所述第二表面上的投影與所述第二直線條紋形成大于0度的夾角。

4.根據權利要求3所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋沿垂直于所述第一表面的方向的厚度為2-20um，所述第二直線條紋沿垂直于所述第二表面的方向的厚度為2-20um。

5.根據權利要求3所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋沿平行于所述第一表面的方向的寬度為20-200um，所述第二直線條紋沿平行于所述第二表面的方向的寬度為20-200um。

6.根據權利要求3-5中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，相鄰兩條所述第一直線條紋的間距為20-250um，相鄰兩條所述第二直線條紋的間距為20-250um。

7.根據權利要求3-5中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋的外表面為圓弧面。

8.根據權利要求6所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一直線條紋的外表面為圓弧面。

9.根據權利要求1-5中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述保護膜本體為PET膜。

10.根據權利要求6所述的紋理保護膜，其特征在于，所述保護膜本體為PET膜。

11.根據權利要求7所述的紋理保護膜，其特征在于，所述保護膜本體為PET膜。

12.根據權利要求8所述的紋理保護膜，其特征在于，所述保護膜本體為PET膜。

13.根據權利要求1-5中任一項所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

14.根據權利要求6所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

15.根據權利要求7所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

16.根據權利要求8所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

17.根據權利要求9所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

18.根據權利要求10所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

19.根據權利要求11所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。

20.根據權利要求12所述的紋理保護膜，其特征在于，所述第一紋理層和所述第二紋理層均由UV膠水壓印形成。