本實用新型公開了一種帶清洗功能的密封圈調整裝置；屬于電解銅箔技術領域；其技術要點包括支架，所述支架兩側分別設有第一導向輪，兩個導向輪之間的支架上設有第二導向輪，所述第二導向輪連接有水平位移調節機構；所述支架上設有儲水槽，所述儲水槽連接有虹吸式滴水機構，所述虹吸式滴水機構的出水口與密封圈相對，在密封圈下方設有與虹吸式滴水機構的出水口相對的接水槽；本實用新型旨在提供一種操作簡單及使用效果良好的帶清洗功能的密封圈調整裝置；用于電解銅箔生產。
技術領域
本實用新型涉及一種密封圈調整裝置，更具體地說，尤其涉及一種帶清洗功能的密封圈調整裝置。
背景技術
電解銅箔是生箔機生產出來的，生箔機在生產的過程中，需要對陰極輥兩側實現密封，現在一般都是采用導向輪和密封圈的配合對其進行密封，同時密封圈對電解銅箔兩側的邊部整齊度也有著重要作用。但是，陰極輥在旋轉的過程中，會使旋轉出電解區域的密封圈沾附有少量的硫酸銅溶液，這些硫酸銅溶液會在空氣中結晶形成顆粒，隨著密封圈循環轉動，從而導致密封性能降低，嚴重時可能會引起生產中的銅箔產生撕邊、長銅屑和燒邊現象。
實用新型內容
本實用新型的目的在于針對上述現有技術的不足，提供一種操作簡單及使用效果良好的帶清洗功能的密封圈調整裝置。
本實用新型的技術方案是這樣實現的：一種帶清洗功能的密封圈調整裝置，包括支架，所述支架兩側分別設有第一導向輪，兩個導向輪之間的支架上設有第二導向輪，所述第二導向輪連接有水平位移調節機構；所述支架上設有儲水槽，所述儲水槽連接有虹吸式滴水機構，所述虹吸式滴水機構的出水口與密封圈相對，在密封圈下方設有與虹吸式滴水機構的出水口相對的接水槽。
上述的一種帶清洗功能的密封圈調整裝置中，所述水平位移調節機構由活動設置在支架上的調節絲桿、設置在調節絲桿兩側且與調節絲桿平行的導向槽、與調節絲桿螺紋連接的水平滑座、設置在水平滑座兩端且與導向槽相配合的導向滑塊及與調節絲桿自由端固定連接的操作手柄組成；所述活動塊上連接有轉軸，所述第二導向輪與轉軸活動連接。
上述的一種帶清洗功能的密封圈調整裝置中，所述虹吸式滴水機構主要由設置在儲水槽上的導向定位組件、設置在導向定位組件上的吸水棉線及設置在導向定位組件靠近密封圈一端近端部的滴水調節組件組成；所述吸水棉線一端位于儲水槽內，另一端與密封圈相對。
上述的一種帶清洗功能的密封圈調整裝置中，所述導向定位組件由U形導向軟管和設置在儲水槽內、外壁上的定位卡箍組成；所述U形導向軟管通過定位卡箍固定在儲水槽上，所述吸水棉線設置在U形導向軟管內。
上述的一種帶清洗功能的密封圈調整裝置中，所述吸水棉線與密封圈相對的一端與密封圈之間的間距為0.5-1.5cm。
上述的一種帶清洗功能的密封圈調整裝置中，所述滴水調節組件由套設在U形導向軟管外圍且與支架固定連接的定位環、沿定位環徑向設置且與定位環螺紋連接的調節螺絲及活動設置在調節螺絲自由端且與U形導向軟管相對的調節壓板組成。
上述的一種帶清洗功能的密封圈調整裝置中，所述支架上設有與儲水槽相配合的支承座，在支承座上沿周向設有若干彈性定位片，在彈性定位片自由端設有與儲水槽相對的定位凸塊，在儲水槽外壁上設有與定位凸塊相配合的定位凸環。
本實用新型采用上述結構后，通過第一、二導向輪和水平位移調節機構的配合，可使密封圈保持緊致狀態，防止因密封圈的松弛而影響銅箔生產過程中的密封性。同時，通過儲水槽和虹吸式滴水機構的配合，可對密封圈上沾附的少量硫酸銅溶液起到清洗的作用，防止因密封圈上的硫酸銅溶液在空氣中形成的顆粒影響密封性和使銅箔產生撕邊、長銅屑、燒邊等現象。
附圖說明
下面結合附圖中的實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，但并不構成對本實用新型的任何限制。
圖1是本實用新型的結構示意圖；
