[實用新型]一種單銀低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 201821145137.6 | 申請日: | 2018-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN208667497U | 公開(公告)日: | 2019-03-29 |
| 發明(設計)人: | 王棟權;宋保柱;米永江 | 申請(專利權)人: | 吳江南玻華東工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 孫仿衛;都春燕 |
| 地址: | 215222 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 低輻射鍍膜玻璃 本實用新型 玻璃基體 復合膜層 玻璃生產技術 機械性能指標 光學性能 貴金屬 復合層 朝外 鍍設 沉積 修正 | ||
1.一種單銀低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基體以及鍍設于所述玻璃基體一側表面的復合膜層,其特征在于:所述復合膜層包括自所述玻璃基體朝外依次沉積的ZnSn-ZnO復合層、第一NiCr層、Ag層、Cu層、第二NiCr層和Si3N4層,所述Cu層的厚度為1-4nm。
2.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述Ag層的厚度為不小于5.1nm。
3.根據權利要求2所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述Ag層的厚度為5.1-13nm。
4.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述ZnSn-ZnO復合層的厚度為10-30nm。
5.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述第一NiCr層的厚度為1-4nm。
6.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述第二NiCr層的厚度為2-13nm。
7.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述Si3N4層的厚度為35-50nm。
8.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述復合膜層中自所述玻璃基體向外的各個膜層其厚度依次為:25.1nm、1.4nm、9.2nm、1.0nm、3.3nm、40.8nm。
9.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述復合膜層中自所述玻璃基體向外的各個膜層其厚度依次為:26.2nm、0.9nm、8.9nm、2.0nm、3.3nm、40.7nm。
10.根據權利要求1所述的一種單銀低輻射鍍膜玻璃,其特征在于:所述復合膜層中自所述玻璃基體向外的各個膜層其厚度依次為:29.8nm、0.8nm、8.6nm、4.0nm、2.7nm、41.2nm。
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