[實用新型]一種低雜質壓鑄原料雙層融解裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821129279.3
• 申請日: 2018-07-16
• 公開（公告）號: CN209276592U
• 公開（公告）日: 2019-08-20
• 發(fā)明（設計）人: 張麟雄
• 申請（專利權）人: 東莞瑞振金屬制品有限公司
• 主分類號: C22B7/00
• 分類號: C22B7/00;C22B21/00;B22D17/30
• 代理公司: 深圳市神州聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 44324
• 代理人: 周松強

本實用新型公開了一種低雜質壓鑄原料雙層融解裝置，該融解坩堝包括有外置融解坩堝，該融解坩堝還包括有內置坩堝，內置坩堝置于外置融解坩堝中，內置坩堝的底部還開設有孔，且內置坩堝的鍋口保持與外置融解坩堝的鍋口齊平。相比與現有技術，用戶利用本裝置，可有效清除鋁塊融解過程中表面覆有的氧化鋁雜質，得到較少雜質的鋁湯，且整個融解坩堝結構簡單，使用方便，適合廣泛推廣。

技術領域

本實用新型屬于鑄造加工設備制造領域，特別涉及一種低雜質壓鑄原料雙層融解裝置。

背景技術

目前，在鋁合金回收再次利用的生產線上，由于鋁熔煉后會產生物理變態(tài)，化成液態(tài)鋁，而鋁液在通過引流管時，經常會帶走很多雜質一起通過引流管至模具內，造成鋁錠的純度不高。

在專利申請?zhí)枮椤?01420861508.6”的專利申請文件中公開了一種鋁合金生產線用的熔坩堝雜質隔離裝置，包括熔坩堝，所述熔坩堝內熔煉室底部有鋁液引流槽，，所述熔煉室底部為漏斗型，引流槽傾斜向下；本實用新型解決了鋁液在通過引流管時，經常會帶走很多雜質一起通過引流管至模具內，造成鋁錠的純度不高的問題，且該實用新型結構簡單實用，具有極大的市場推廣價值。然而，上述裝置更多地從加工上確保鋁液的純凈度，沒法從原料上就確保純凈度，如現有技術中存在的原熔解坩堝只有大坩鍋,生產時間久,鋁湯表面有氧化鋁產生, 取料時直接在鋁湯表面取料,會產生雜質的問題。

發(fā)明內容

為解決上述問題，本實用新型的目的在于提供一種有效防止鋁湯表面氧化鋁雜質的低雜質壓鑄原料雙層融解裝置。

本實用新型的另一個目的在于提供一種低雜質壓鑄原料雙層融解裝置，該融解裝置結構簡單，制造成本低且易于實現，使用方便，適合廣泛推廣

為實現上述目的，本實用新型的技術方案如下：

本實用新型提供一種低雜質壓鑄原料雙層融解裝置，該融解坩堝包括有外置融解坩堝，該融解坩堝還包括有內置坩堝，內置坩堝置于外置融解坩堝中，內置坩堝的底部還開設有過濾孔，且內置坩堝的鍋口保持與外置融解坩堝的鍋口齊平。

本融解裝置主要用于融解塊狀鋁原料，使用時，將整個融解裝置置于融解熱源上，將塊狀鋁原料置于外置融解坩堝中，塊狀鋁原料受熱融解成為鋁湯，鋁湯上表面暴露在空氣中，鋁氧化形成一層氧化鋁雜質覆在鋁湯表面，內置坩堝置于外置融解坩堝中，且內置坩堝的底部開設有孔，低雜質的鋁湯通過孔流入內置坩堝中，操作人員需取用鋁湯時，只需取用內置坩堝中的鋁湯即可取得較低雜質的液態(tài)鋁。

內置坩堝中的孔開設的高度不低于外置融解坩堝中融解液中常見雜質懸浮的高度。塊狀鋁原料融解成鋁湯后后，塊狀鋁原料中原先含有的較重雜質沉到外置融解坩堝的底部，內置坩堝中的孔的位置開設得當，可避免將沉在底部的雜質進入內置坩堝中，保證內置坩堝中的鋁湯雜質較少。

該融解裝置還包括有固定坩堝圈組件，固定坩堝圈組件包括有固定坩堝圈，所述固定坩堝圈包括有固定部和支撐部，固定部與支撐部一體成型式連接，固定部與內置坩堝相配合，固定部套設在內置過濾坩堝外，與內置坩堝可拆卸式連接，支撐部架設在外置融解坩堝的上部邊緣上。內置坩堝置于固定部中，由支撐部將內置過濾坩堝支撐并架設在外置融解坩堝上，方便操作人員根據實際生產需要將內置融解坩堝放入或取出。

固定坩堝圈包括有第一固定枝與第二固定枝，支撐部包括有左端支撐部和右端支撐部，第一固定枝的左端固定并伸出形成左端支撐部，第一固定枝的中部與第二固定枝的中部圍合形成固定部，第一固定枝的右端與第二固定枝的右端分別伸出形成右端支撐部，且第一固定枝的右端與第二固定枝的右端均分別對應開設有緊定孔。

固定坩堝圈組件還包括有鎖緊螺釘，所述鎖緊螺釘與緊定孔配合，鎖緊螺釘分別穿接在第一固定枝與第二固定枝的緊定孔中，鎖緊螺釘分別與第一固定枝和第二固定枝可拆卸式連接。使用時，操作人員將內置坩堝置于固定部中，再根據內置坩堝的實際大小，調整鎖緊螺釘，保證第一固定枝與第二固定枝圍合形成的固定部牢牢箍緊內置坩堝。