[實用新型]一種低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201821098767.2
• 申請日: 2018-07-11
• 公開（公告）號: CN208747939U
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發明（設計）人: 高富堂
• 申請（專利權）人: 定西中慶玄和玻璃科技有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板(1)和鍍膜層，所述鍍膜層包括內介質層(2)、內阻擋層(3)、功能層(4)、外阻擋層(5)和外介質層(6)，所述內介質層(2)覆蓋于玻璃基板(1)上，所述內阻擋層(3)覆蓋于內介質層(2)上，所述功能層(4)覆蓋于內阻擋層(3)上，所述外阻擋層(5)覆蓋于功能層(4)上，所述外介質層(6)覆蓋于外阻擋層(5)上；所述內介質層(2)與內阻擋層(3)為相互嵌合的凹凸結構；所述外阻擋層(5)與外介質層(6)相互嵌合的凹凸結構。

2.如權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板(1)為白玻基板或超白原片基板。

3.如權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述內介質層(2)為非金屬氮化物層或非金屬氧化物層。

4.如權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述外介質層(6)為非金屬氮化物層或非金屬氧化物層。

5.如權利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述內介質層(2)的厚度小于外介質層(6)的厚度。

6.如權利要求1～5任一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述內介質層(2)的厚度為25nm～30nm。

7.如權利要求1～5任一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述外介質層(6)的厚度為50nm～70nm。

8.如權利要求1～5任一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述功能層(4)的厚度為5nm～10nm。

9.如權利要求1～5任一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述內阻擋層(3)為鎳鉻層、氧化鎳鉻層或氮化鎳鉻層，且內阻擋層(3)的厚度為1nm～4nm。

10.如權利要求1～5任一項所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述外阻擋層(5)為鎳鉻層、氧化鎳鉻層或氮化鎳鉻層，且外阻擋層(5)的厚度為1nm～4nm。