[實用新型]一種漸變色膜層

有效

• 申請號: 201821095940.3
• 申請日: 2018-07-11
• 公開（公告）號: CN208430042U
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發明（設計）人: 楊鵬;周偉杰
• 申請（專利權）人: 信利光電股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 深圳市深佳知識產權代理事務所(普通合伙) 44285
• 代理人: 王仲凱

本實用新型公開了一種漸變色膜層，包括：玻璃基板、設置在玻璃基板第二面的高透防指紋膜層和依次設置在玻璃基板的第一面的第一氧化硅層、第一氧化鈦層、第二氧化硅層、第二氧化鈦層、第三氧化硅層、第三氧化鈦層、第四氧化硅層和第四氧化鈦層；上述四個氧化硅層的折射率為1.3～1.5；上述四個氧化鈦層的折射率為2.0～2.5；本實用新型中的氧化硅層厚度均沿所述玻璃基板的第一側面向所述玻璃基板的第二側面依次減小；所述氧化鈦層厚度均沿所述玻璃基板的第一側面向所述玻璃基板的第二側面依次增大。本實用新型解決了現有技術中漸變色膜層那一兼顧耐磨性能和平整性的技術問題。

技術領域

本實用新型涉及電子產品配件領域，具體涉及一種漸變色膜層。

背景技術

漸變色膜層是由兩種或者多種折射率不同的材料堆疊而成，由于厚度沿著某一個方向呈現一定比例的增大或縮小，從而出現漸變色的光學特性。傳統的漸變色膜層由具有兩種高低折射率的膜層形成，兩種膜層的厚度沿著某一方向同時增大或者同時縮小，容易導致膜層表面不平整，影響漸變色膜層的耐磨性能，當漸變色膜層上鍍上高透防指紋膜(AF膜層)后，其耐摩擦性能會顯著下降。因此，實用新型出一種能夠兼具耐磨性能和平整性的漸變色膜層成為了本領域技術人員亟待解決的技術問題。

實用新型內容

本實用新型實施例公開了一種漸變色膜層，解決現有技術中漸變色膜層那一兼顧耐磨性能和平整性的技術問題。

本實用新型提供了一種漸變色膜層，包括：玻璃基板、設置在玻璃基板第二面的高透防指紋膜層和依次設置在玻璃基板的第一面的第一氧化硅層、第一氧化鈦層、第二氧化硅層、第二氧化鈦層、第三氧化硅層、第三氧化鈦層、第四氧化硅層和第四氧化鈦層；

所述第一氧化硅層、第二氧化硅層、第三氧化硅層和第四氧化硅層的折射率為1.3～1.5；

所述第一氧化鈦層、第二氧化鈦層、第三氧化鈦層和第四氧化鈦層的折射率為2.0～2.5；

所述第一氧化硅層、第二氧化硅層、第三氧化硅層和第四氧化硅層的厚度沿所述玻璃基板的第一側面向所述玻璃基板的第二側面依次減小；

所述第一氧化鈦層、第二氧化鈦層、第三氧化鈦層和第四氧化鈦層的厚度沿所述玻璃基板的第一側面向所述玻璃基板的第二側面依次增大。

優選的，還包括高透防指紋膜層，所述高透防指紋膜層設置在所述玻璃基板的第二面。

優選的，所述玻璃基板為藍寶石玻璃基板或聚甲基丙烯酸甲酯玻璃基板。

優選的，所述第一氧化硅層、所述第一氧化鈦層、所述第二氧化硅層、所述第二氧化鈦層、所述第三氧化硅層、所述第三氧化鈦層、所述第四氧化硅層和所述第四氧化鈦層之間通過真空蒸鍍方式連接。

優選的，所述第一氧化硅層、所述第一氧化鈦層、所述第二氧化硅層、所述第二氧化鈦層、所述第三氧化硅層、所述第三氧化鈦層、所述第四氧化硅層和所述第四氧化鈦層之間通過磁控濺射方式連接。

本實用新型提供的一種漸變色膜層，不同于現有技術中高低兩種折射率的膜層的厚度沿著某一方向同時增大或者同時縮小，導致膜層表面不平整，影響耐磨性能，尤其是膜層上鍍了AF后其耐摩擦性能會顯著下降。本實用新型提供的漸變色膜層，具有較低折射率的氧化硅層與具有較高折射率的氧化鈦層的厚度沿相反方向依次遞減，使該漸變色膜層表面保持平整，進而使設置在玻璃基板第二面的高透防指紋膜層的耐磨性能增強，且氧化鈦層與氧化硅層的組合使得光學干涉效果明顯，使該漸變色膜層具有鮮艷的光學顏色，使其更能廣泛的應用于電子產品配件領域。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖。