[實(shí)用新型]防止晶圓襯底旋轉(zhuǎn)的分子束外延用襯底托板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821095559.7 | 申請(qǐng)日： | 2018-07-11 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN208594348U | 公開（公告）日： | 2019-03-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳意橋;陳超;趙曼曼 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 蘇州焜原光電有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C30B25/12 | 分類號(hào)： | C30B25/12;C23C16/458 |
| 代理公司： | 昆山中際國(guó)創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32311 | 代理人： | 盛建德 |
| 地址： | 215000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 晶圓 襯底托板 外環(huán)形 襯底 切邊 分子束外延 襯底旋轉(zhuǎn) 內(nèi)環(huán)形 邊卡 電子元器件 表面雜質(zhì) 襯底邊緣 襯底托 上表面 劃痕 卡塊 切片 相等 頂住 | ||
1.一種防止晶圓襯底旋轉(zhuǎn)的分子束外延用襯底托板，其特征在于：包括環(huán)狀的本體，所述本體的中心設(shè)有表面低于本體上表面的外環(huán)形臺(tái)以及低于所述外環(huán)形臺(tái)的內(nèi)環(huán)形臺(tái)，所述內(nèi)環(huán)形臺(tái)用于托承晶圓襯底，所述外環(huán)形臺(tái)上開有一個(gè)寬度與晶圓切邊相等的凹槽，所述凹槽內(nèi)設(shè)有一個(gè)能接觸晶圓切邊的切片卡塊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底托板，其特征在于：所述切邊卡塊的水平面投影呈梯形，梯形的頂邊長(zhǎng)度是底邊長(zhǎng)度的25-50％，底邊比頂邊更靠近本體的中心。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底托板，其特征在于：所述頂邊與所述凹槽的側(cè)壁之間留有縫隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底托板，其特征在于：所述切邊卡塊的厚度比外環(huán)形臺(tái)與內(nèi)環(huán)形臺(tái)的高度差大0.02-0.50mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底托板，其特征在于：所述內(nèi)環(huán)形臺(tái)的內(nèi)邊緣在水平面上的投影呈弓形，弓形的直邊靠近所述凹槽且長(zhǎng)度等于凹槽的寬度。
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