[實用新型]一種新型高分子下料機構

有效

• 申請號: 201821091570.6
• 申請日: 2018-07-11
• 公開（公告）號: CN208648213U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 林秉正
• 申請（專利權）人: 泉州市漢威機械制造有限公司
• 主分類號: B65G65/48
• 分類號: B65G65/48
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司 35218
• 代理人: 方惠春

1.一種新型高分子下料機構，其特征在于：包括機架、設于機架上的基座、設于基座上用于高分子下料的箱體、設于基座下端的兩個調整板、設于機架上位于調整板下端的下料輥，所述箱體下端設有出料口，所述基座上設有連通出料口的下料孔，兩調整板相互靠近的部位形成下料通道，各調整板上設有條形孔，各調整板通過螺栓鎖緊條形孔的方式鎖緊于基座上，所述下料輥上均勻分布地設有復數個用于卡置高分子材料的凹坑，所述下料通道覆蓋凹坑數量小于五個且大于一個。

2.根據權利要求1所述的一種新型高分子下料機構，其特征在于：所述箱體內靠近出料口的部位上設有用于限制高分子出料速度的兩個導引輥，兩導引輥通過伺服電機傳動，兩導引輥上均勻分布地設有復數個承載凹槽。

3.根據權利要求2所述的一種新型高分子下料機構，其特征在于：兩導引輥轉動方向相反。

4.根據權利要求2所述的一種新型高分子下料機構，其特征在于：各承載凹槽為弧形凹槽。

5.根據權利要求1或2或3或4所述的一種新型高分子下料機構，其特征在于：各調整板相互靠近的一端分別設有引導高分子下落的傾斜面。

6.根據權利要求1或2或3或4所述的一種新型高分子下料機構，其特征在于：各凹坑為弧形凹坑。