[實(shí)用新型]反應(yīng)架有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201821083409.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-07-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN208526681U | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黎樹(shù)清 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞市東測(cè)檢測(cè)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01L9/00 | 分類號(hào): | B01L9/00 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 崔明思 |
| 地址: | 523000 廣東省東莞市南*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 下層板 上層板 插口 擋板 銜接口 發(fā)散狀設(shè)置 支撐腿 本實(shí)用新型 連接固定 支撐固定 取出 銜接 | ||
1.一種反應(yīng)架,用于支撐固定反應(yīng)容器,其特征在于,所述反應(yīng)架包括:
上層板,所述上層板上設(shè)置有至少兩個(gè)插口;各所述插口呈通孔狀連通所述上層板的上下兩側(cè);
下層板,所述下層板對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述上層板的下方,所述下層板的尺寸小于所述上層板的尺寸;所述下層板上設(shè)置有至少兩個(gè)銜接口;所述銜接口的設(shè)置數(shù)量與所述插口的設(shè)置數(shù)量相同,各所述銜接口與各所述插口對(duì)應(yīng)設(shè)置,用于使設(shè)置在各所述插口與銜接口內(nèi)的反應(yīng)容器自下而上呈發(fā)散狀設(shè)置;
擋板,所述擋板對(duì)應(yīng)設(shè)置在所述下層板的下方;及
至少三個(gè)支撐腿,各所述支撐腿呈傾斜狀延伸設(shè)置,并且分別與所述上層板、下層板及擋板連接固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)架,其特征在于,所述上層板包括上圍條及設(shè)置在所述上圍條內(nèi)部的至少一個(gè)上肋條。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)架,其特征在于,各所述上肋條呈網(wǎng)格狀交替設(shè)置在所述上圍條的內(nèi)部,各所述上肋條的兩端對(duì)應(yīng)與所述上圍條連接固定。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)架,其特征在于,所述上圍條呈矩形環(huán)狀結(jié)構(gòu)設(shè)置,所述上層板呈矩形狀結(jié)構(gòu)設(shè)置;所述下層板與所述上層板的形狀相對(duì)應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的反應(yīng)架,其特征在于,所述上圍條上設(shè)置有四個(gè)上拐點(diǎn);所述支撐腿對(duì)應(yīng)設(shè)置有四個(gè);各所述支撐腿分別自各所述上拐點(diǎn)向內(nèi)向所述擋板方向延伸設(shè)置,各所述支撐腿連接所述擋板后繼續(xù)向下延伸設(shè)置。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的反應(yīng)架,其特征在于,所述下層板包括下圍條及設(shè)置在所述下圍條內(nèi)部的至少一個(gè)下肋條;各所述下肋條與各所述上肋條相對(duì)應(yīng)設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的反應(yīng)架,其特征在于,各所述上肋條圍成各所述插口;各所述下肋條圍成所述銜接口;所述插口與所述銜接口的設(shè)置數(shù)量相對(duì)應(yīng)為三十六個(gè)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)架,其特征在于,所述上層板的兩側(cè)呈相對(duì)狀設(shè)置有把手。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的反應(yīng)架,其特征在于,所述把手的頂部設(shè)置有隔熱涂層;所述隔熱涂層套設(shè)在所述把手的外側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反應(yīng)架,其特征在于,各所述支撐腿上設(shè)置有磁吸元件;各所述磁吸元件對(duì)應(yīng)設(shè)置在支撐腿靠近所述擋板的一端。
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