[實用新型]一種連續鍍膜工藝室有效
| 申請號： | 201821081044.1 | 申請日： | 2018-07-09 |
| 公開（公告）號： | CN208430226U | 公開（公告）日： | 2019-01-25 |
| 發明（設計）人： | 于春鋒 | 申請（專利權）人： | 山東三齊能源有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/56 | 分類號： | C23C14/56;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/06;C23C14/34 |
| 代理公司： | 濟南舜昊專利代理事務所(特殊普通合伙) 37249 | 代理人： | 吳佳佳 |
| 地址： | 250200 山東省濟南*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化物鍍膜 連續鍍膜 工藝室 本實用新型 鍍膜腔 氮化物和氧化物 鍍膜設備 多層鍍膜 金屬鍍膜 依次連接 混合物 氮化物 連續鍍 | ||
【權利要求書】：
1.一種連續鍍膜工藝室，其特征在于，包括依次連接的第一氧化物鍍膜腔、金屬鍍膜腔、氮化物鍍膜腔、氮化物和氧化物的混合物鍍膜腔、第二氧化物鍍膜腔、第三氧化物鍍膜腔。
2.如權利要求1所述的連續鍍膜工藝室，其特征在于：所述第一氧化物鍍膜腔內設置有2組金屬靶材。
3.如權利要求2所述的連續鍍膜工藝室，其特征在于：所述金屬鍍膜腔內設置有1組金屬靶材。
4.如權利要求3所述的連續鍍膜工藝室，其特征在于：所述氮化物鍍膜腔內設置有1組金屬靶材。
5.如權利要求4所述的連續鍍膜工藝室，其特征在于：所述氮化物和氧化物的混合物鍍膜腔內設置有2組金屬靶材。
6.如權利要求5所述的連續鍍膜工藝室，其特征在于：所述第二氧化物鍍膜腔內設置有2組金屬靶材。
7.如權利要求6所述的連續鍍膜工藝室，其特征在于：所述第三氧化物鍍膜腔內設置有2組半導體靶材。
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