[實用新型]裝飾膜及裝飾結(jié)構(gòu)有效
申請?zhí)枺?/td> | 201821078973.7 | 申請日: | 2018-07-09 |
公開(公告)號: | CN208532935U | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 李可峰;張艷芳;許仁;王偉 | 申請(專利權(quán))人: | 維達力實業(yè)(深圳)有限公司;萬津科技有限公司 |
主分類號: | C23C30/00 | 分類號: | C23C30/00;C23C28/04 |
代理公司: | 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 林青中 |
地址: | 518129 廣東省深圳市龍崗區(qū)坂田街*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 氮化硅膜 光學(xué)薄膜 裝飾膜 氮氧化鋁膜 硬質(zhì)膜 裝飾結(jié)構(gòu) 兩層 表面設(shè)置 申請 | ||
1.一種裝飾膜,其特征在于,包括:硬質(zhì)膜和設(shè)于所述硬質(zhì)膜表面的光學(xué)薄膜,所述光學(xué)薄膜由一層氮化硅膜或一層氮氧化鋁膜組成;或所述光學(xué)薄膜包括至少兩層氮化硅膜和設(shè)置在相鄰兩層氮化硅膜之間的氮氧化鋁膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝飾膜,其特征在于,所述氮化硅膜的厚度不超過10μm;所述氮氧化鋁膜的厚度不超過10μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝飾膜,其特征在于,所述氮化硅膜的厚度為0.005μm~3μm;所述氮氧化鋁膜的厚度為0.005μm~3μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝飾膜,其特征在于,所述氮化硅膜的厚度為5nm~200nm,所述氮氧化鋁膜的厚度為5nm~200nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝飾膜,其特征在于,所述硬質(zhì)膜的厚度不超過10μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝飾膜,其特征在于,所述硬質(zhì)膜的厚度為5nm~3μm。
7.一種裝飾結(jié)構(gòu),其特征在于,包括基材和如權(quán)利要求1~6任一項所述的裝飾膜,所述裝飾膜設(shè)于所述基材的表面,且所述裝飾膜的硬質(zhì)膜或光學(xué)薄膜與所述基材接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝飾結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括高透防指紋膜,所述高透防指紋膜設(shè)于所述基材遠離所述裝飾膜的表面;或所述高透防指紋膜設(shè)于所述裝飾膜遠離所述基材的表面。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的裝飾結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基材為金屬基材、陶瓷基材或塑料基材。
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