[實用新型]一種增強(qiáng)背鈍化的PERC雙面太陽能電池有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821077964.6 | 申請日: | 2018-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN208608206U | 公開(公告)日: | 2019-03-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林綱正;方結(jié)彬;陳剛 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江愛旭太陽能科技有限公司;廣東愛旭科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/068;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州知友專利商標(biāo)代理有限公司 44104 | 代理人: | 侯莉 |
| 地址: | 322000 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 背面鈍化膜 本實用新型 開孔 雙面太陽能電池 布設(shè) 鈍化 開槽 鋁柵 光電轉(zhuǎn)換效率 設(shè)備投入成本 背銀電極 鈍化效果 硅片背面 依次設(shè)置 正銀電極 制備工藝 鈍化膜 兼容性 背面 電池 貫通 生長 制作 改造 | ||
本實用新型公開一種增強(qiáng)背鈍化的PERC雙面太陽能電池,包括從下至上依次設(shè)置的背銀電極、鋁柵線、背面鈍化膜、P型硅、N型發(fā)射極、正面鈍化膜和正銀電極,在所述背面鈍化膜上開有貫通背面鈍化膜的開槽,所述鋁柵線通過所述開槽與P型硅相連,在所述P型硅的背面布設(shè)開孔,所述背面鈍化膜部分位于所述開孔內(nèi),以增大背面鈍化膜的面積。本實用新型通過在硅片背面布設(shè)開孔,開孔內(nèi)生長背面鈍化膜,增大背面鈍化膜的面積,提高鈍化效果,從而提升了電池的光電轉(zhuǎn)換效率;本實用新型制備工藝簡單,設(shè)備投入成本低,而且與現(xiàn)有生產(chǎn)線兼容性好,對現(xiàn)有生產(chǎn)線進(jìn)行簡單改造后即可使用。另外,本實用新型的制作成本低,工藝簡單,適于廣泛推廣和適用。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及太陽能電池技術(shù),尤其涉及一種增強(qiáng)背鈍化的PERC雙面太陽能電池。
背景技術(shù)
晶硅太陽能電池是一種有效吸收太陽輻射能,利用光生伏打效應(yīng)把光能轉(zhuǎn)換成電能的器件。當(dāng)太陽光照射在半導(dǎo)體P-N結(jié)上時,會形成新的空穴-電子對,在P-N結(jié)電場的作用下,空穴由N區(qū)流向P區(qū),電子由P區(qū)流向N區(qū),接通電路后就形成電流。
常規(guī)晶硅太陽能電池一般只采用正面鈍化技術(shù),在硅片的正面使用PECVD方式沉積一層氮化硅,降低少子在前表面的復(fù)合速率,可以大幅度提升晶硅太陽能電池的開路電壓和短路電流,從而提升晶硅太陽電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
隨著當(dāng)前對晶硅太陽能電池光電轉(zhuǎn)換效率的要求越來越高,人們開始研究PERC背鈍化太陽電池技術(shù)。然而,如何利用PERC背鈍化太陽電池技術(shù)來提高PERC太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率是目前業(yè)界亟待解決的技術(shù)難題。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于提供一種能夠提升電池的光電轉(zhuǎn)換效率、成本低、工藝簡單、與現(xiàn)有生產(chǎn)線兼容性好的增強(qiáng)背鈍化的PERC雙面太陽能電池。
本實用新型的目的通過如下的技術(shù)方案來實現(xiàn):一種增強(qiáng)背鈍化的PERC雙面太陽能電池,包括從下至上依次設(shè)置的背銀電極、鋁柵線、背面鈍化膜、P型硅、N型發(fā)射極、正面鈍化膜和正銀電極,在所述背面鈍化膜上開有貫通背面鈍化膜的開槽,所述鋁柵線通過所述開槽與P型硅相連,其特征在于:在所述P型硅的背面布設(shè)開孔,所述背面鈍化膜部分位于所述開孔內(nèi),以增大背面鈍化膜的面積。
本實用新型通過在硅片背面布設(shè)開孔,開孔內(nèi)生長背面鈍化膜,增大背面鈍化膜的面積,提高鈍化效果,從而提升了電池的光電轉(zhuǎn)換效率;本實用新型制備工藝簡單,設(shè)備投入成本低,而且與現(xiàn)有生產(chǎn)線兼容性好,對現(xiàn)有生產(chǎn)線進(jìn)行簡單改造后即可使用。另外,本實用新型的制作成本低,工藝簡單,適于廣泛推廣和適用。
作為本實用新型的一種優(yōu)選實施方式,所述開孔避開所述開槽設(shè)置,可避免對絲網(wǎng)印刷鋁柵線產(chǎn)生影響,更適合工業(yè)化生產(chǎn)。
本實用新型所述開孔為呈陣列分布的孔洞、或所述開孔為直線狀的長形孔、或所述開孔為短線狀的長形孔,短線狀長形孔排列成虛線形。所述開孔還可以是其它形狀,并排列成其它圖形。
本實用新型所述開孔的深度為5~50um。
本實用新型所述孔洞為圓形孔,其直徑為20~200um;所述直線狀長形孔的寬度為20~200um;所述短線狀長形孔的寬度為20~200um。
本實用新型所述背面鈍化膜包括背面氮化硅膜和氧化鋁膜,所述氧化鋁膜位于背面氮化硅膜的上表面上,所述背面氮化硅膜的厚度為50~500nm,所述氧化鋁膜的厚度為2~50nm。
本實用新型所述正面鈍化膜采用氮化硅膜。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有如下顯著的效果:
⑴本實用新型通過在硅片背面布設(shè)開孔,開孔內(nèi)生長背面鈍化膜,增大背面鈍化膜的面積,提高鈍化效果,從而提升了電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





