[實用新型]一種低熔點合金粉末制備裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821064228.7
• 申請日: 2018-07-06
• 公開（公告）號: CN208613747U
• 公開（公告）日: 2019-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 秦超;尹衍騰;張振江;董存民
• 申請（專利權(quán)）人: 煙臺艾邦電子材料有限公司
• 主分類號: B22F9/10
• 分類號: B22F9/10
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種低熔點合金粉制備裝置，包括熔煉爐、導流管、儲液漏斗、刮盤器、電機、連桿、高頻震動發(fā)生器、霧化盤、霧化室、中空層、循環(huán)風機組、冷卻列管、進風閥、出風閥、補氧環(huán)、充氮氣閥、進水閥、出水閥、放粉閥、集粉罐、控制電柜、作業(yè)平臺、導管、循環(huán)水機組、真空閥、真空泵、氮氣和氧氣罐，開機前先抽真空，再充入氮氣，霧化盤上的合金液體在離心力和循環(huán)風的力量下處于循環(huán)下落軌跡；霧化室通過惰性氣體保護，合金顆粒的表面形成一層薄薄的氧化層，保證粉末活性以及流動性，放粉閥保證粉末收集時霧化室內(nèi)的氧氮含量平衡，降低了惰性氣體的消耗；可連續(xù)生產(chǎn)粒徑從1?100微米、球形度大于96％、氧含量低于50ppm的金屬粉末。

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于金屬粉末制備裝置領(lǐng)域，具體涉及一種低熔點合金粉制備裝置。

背景技術(shù)

低熔點金屬粉末應用于工業(yè)材料，如蓄電池所需的鉛粉、SMT行業(yè)所需的低溫焊料焊錫粉、3D打印技術(shù)所需的超微金屬粉末等，其應用領(lǐng)域不斷延伸，對低熔點金屬粉末的需求呈現(xiàn)不斷增長的態(tài)勢。目前常見的低熔點金屬粉末制備工藝為水霧化、氣霧化、超聲波霧化、離心霧化以及球磨等。

專利號為ZL201210212549.8，申請日為2012年06月21日，授權(quán)公告號為CN102689015B的發(fā)明專利，提供了一種金屬粉末制備裝置及方法，連續(xù)生產(chǎn)-320目以下的球形粉體，氧含量≤80ppm。

雖然已解決了一些普遍存在的部分問題，但是仍存在的技術(shù)問題是：隨著對金屬粉末微觀要求的不斷增加，不同種類金屬的成分具有不同的熔點、強度、電性能、硬度等，無法實現(xiàn)同一款設(shè)備滿足不同種類金屬粉末的制備要求；無法獲得微觀球形度較高的粉末；合金粉末表面氧化而失去金屬活性；粉末粒度偏粗且生產(chǎn)效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型需要解決的技術(shù)問題是提供一種低熔點合金粉制備裝置，旨在解決實現(xiàn)同一款設(shè)備滿足不同種類金屬粉末的制備要求；獲得微觀球形度較高的粉末；提升合金粉末表面金屬活性；改善粉末粒度偏粗，提升生產(chǎn)效率。

本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種低熔點合金粉制備裝置，包括熔煉爐、導流管、霧化室、循環(huán)水機組、循環(huán)風機組、導管、冷卻列管、氮氣罐、和真空泵，位于作業(yè)平臺上的熔煉爐通過導流管與安裝于雙層霧化塔上的儲料漏斗相連，儲料漏斗通過導流管與霧化室內(nèi)的霧化盤相連；位于雙層霧化塔上方中心的電機穿過雙層霧化塔與高頻震動發(fā)生器相連接，高頻震動發(fā)生器通過連桿與霧化盤相連，通過電機帶動與高頻震動發(fā)生器連接的霧化盤旋轉(zhuǎn)運動；雙層霧化塔上半部分為圓柱形，下半部分為錐形，結(jié)構(gòu)為雙層中空，冷卻水在中空層內(nèi)循環(huán)進行冷卻降溫；

霧化室頂壁上設(shè)有真空閥、補氧環(huán)、充氮氣閥和出風閥，霧化室側(cè)壁上設(shè)有進風閥，真空閥通過導管與作業(yè)平臺下方的真空泵相連；補氧環(huán)通過導管與作業(yè)平臺下方氧氣罐相連；充氮氣閥通過導管與作業(yè)平臺下方氮氣罐相連；出風閥通過冷卻列管與作業(yè)平臺下方的循環(huán)風機組相連；開機前先抽真空，再充入氮氣；

循環(huán)水機組將冷卻水通過導管和進水閥注入雙層霧化塔中空層，然后通過出水閥和導管返回循環(huán)水機組；

循環(huán)風機組將氮氣風通過冷卻列管和進風閥注入霧化室，然后通過出風閥和冷卻列管返回循環(huán)風機組里；雙層霧化塔下方設(shè)有的放粉閥；

熔煉爐、電機、循環(huán)水機組、循環(huán)風機組、氧氣罐、氮氣罐、和真空泵通過電源與作業(yè)平臺上的控制電柜相連接。

進一步，所述熔煉爐、導流管、儲料漏斗和霧化盤各自設(shè)有加熱設(shè)備和溫度測量儀，防止熔融的金屬在某一部位凝固或者達不到工藝所需溫度導致霧化出現(xiàn)異常波動。

進一步，所述霧化盤上設(shè)有刮盤器，刮盤器通過軸承與雙層霧化塔外部操作手柄相連，可以在霧化盤表面出現(xiàn)合金覆蓋不均勻的狀態(tài)下，提起放下手柄進行刮盤。

進一步，所述霧化盤為直徑為5-10cm特殊合金制作的金屬圓盤。